融解オーブン PF PRO
加熱乾燥歯科技工所用

融解オーブン
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特徴

機能
加熱, 融解, 乾燥
応用
歯科技工所用
タイプ
真空, 赤外線, ドライ
使用素材
セラミック製, ジルコニア
形態
卓上
温度域

最大: 1,200 °C
(2,192 °F)

最少: 0 °C
(32 °F)

詳細

トラディショナルセラミック炉セラミック修復用のあらゆる製品を焼成するために設計された炉です。従来の磁器は中低融点で、長石、ガラス、二ケイ酸リチウムベースのセラミック、金属上の層状セラミック、ジルコニア、または完全なセラミックシステムも焼成できます。豊富なプログラムと正確な焼成サイクルにより、常に再現性のある最高の結果を得ることができます。 本機には以下が装備されています: - 実用的で直感的なユーザーインターフェース - 自由にプログラム可能な作業パラメーターを幅広く選択できるマルチターンエンコーダー - すべてのサイクルデータを表示する大型グラフィック・ディスプレイ - 最新世代の石英加熱チャンバー 標準構成にはドライ真空ポンプが含まれています。 特徴 16ビットマイクロプロセッサー プログラムおよびアップグレード可能なフラッシュメモリー 従来のセラミック焼成に利用可能な100のプログラム プログラム段階での選択の自由度が高く、すべての機能がユーザーの要求に応じて調整可能 フラスコの開閉による乾燥ステージ 二ケイ酸リチウムの粉砕処理に特化した、2つの温度しきい値によるサイクル機能 真空レベルの調節 様々な冷却モード、密閉チャンバーでの超低速冷却も可能 石英フィルター付き最新型フラスコで赤外線をフル活用 定期的な校正が不要 セラミック製ハニカムサポートと15本の耐火ピン 出力:1200W フラスコサイズØ90x55h 全体寸法: mm 390x440x490h

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。