水素ガス発生装置 COSMOS RACK MF.H2
研究所用卓上メンブレン

水素ガス発生装置
水素ガス発生装置
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特徴

ガスの種類
水素
応用
研究所用
形態
卓上
技術
メンブレン
その他の特徴
高純度の, タッチスクリーン付き
流量

最大: 1 l/min
(0.2642 us gal/min)

最少: 0 l/min
(0 us gal/min)

出口圧力

最大: 11 bar
(159.54 psi)

最少: 0.1 bar
(1.45 psi)

ガス純度

100 %

詳細

コスモスラックMF.H2水素発生装置は、独自の電解質膜技術(PEMセル)100%フルチタンを使用し、高品位純度のH2ガスを発生します。 RACK.MFシリーズ独自のコールドデュアルダイナミック再生ドライヤーは、完全メンテナンスフリーで、24時間連続運転が可能です。運転開始時には必ず内部リークを自動チェックし、運転パラメーターを常に制御することで、最大の安全性を保証します。 クロマトグラフ結果の向上 キャリアガスとして水素を使用することで、低温溶出が可能になり、クロマトグラフカラムの寿命が延びます。キャリアガスとして水素を使用すると、高価なヘリウムよりも高速で高感度です。分離能を低下させることなく、ランタイムを25~35%短縮。 ラボの効率アップ 純度が保証されたガスが常に供給されるため、ボンベを交換するために分析を中断する必要がなく、装置の再校正が少なくて済みます。 安全性の向上 内部容積が非常に限られているため(50ml以下)、ボンベの使用が危険または禁止されている場所でも、ガス発生器を安全に使用できます。 テストされた安全技術の適用により、漏れや故障が発生した場合、ユニットが停止します。 簡単な設置 ガス発生器は実験室内、実験台の上、または下に設置することができ、他の場所に固定されたボンベからの長いガスラインを必要としません。

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*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。