流量コントローラー Turbo™ 2950V

実験用高精度

最先端のマイクロエレクトロニクス用途向けに特別に設計されたTurbo™液体流量コントローラー2950Vは、MSPのTurbo II™ヴェポライザーと組み合わせて、半導体薄膜堆積プロセス（CVD、PECVD、ALD、MOCVDを含む）において比類のない液体源蒸気供給性能を提供します。 Turbo™液体流量コントローラー2950Vは、カスタム設計された高精度・高速流量センサーと、細心の注意を払って設計された流量制御エレクトロニクスを備えています。これらのコンポーネントは、先進的な半導体処理に不可欠な世界クラスの性能を提供します。 - 精密流量制御: 2950 LFCは、MSPのTurbo II™ヴェポライザーのピエゾバルブを制御するための流量センサーと液体制御エレクトロニクスを含んでいます。オンボードの液体制御ピエゾバルブがないヴェポライザーには、2950VシリーズのTurbo™ LFCを使用できます。 - 用途: - 半導体薄膜堆積プロセス - 化学蒸着（CVD） - プラズマ強化化学蒸着（PECVD） - 原子層堆積（ALD） - 金属有機化学蒸着（MOCVD） - 頻繁な流量調整が必要な用途 - 特徴と利点: - 精密な流量制御と調整可能性 - 卓越した精度と直線性 - 超高速応答時間 - 優れた再現性 - 幅広い流量範囲オプション - 技術仕様 / 特徴: - カスタム設計された高精度・高速流量センサー - 細心の注意を払って設計された流量制御エレクトロニクス - 先進的な半導体処理用に設計 - MSP Turbo II™ヴェポライザーと互換性あり - 異なる流量範囲に対応する複数のモデル番号