生産システム PlasmaPro 100 PECVD

PECVDプロセスモジュールは、優れた均質性と高速度の成膜を実現するように独自に設計されており、屈折率や応力、電気的特性、湿式化学エッチング速度のような、薄膜特性を制御できるようになっています。 高品質、高スループット、優れた均質性の成膜が可能 広い電極温度範囲 最大200mmサイズまでの、全てのウェハーに適合可能 ウェハーサイズの迅速な交換が可能 所有コストが低く、保守が簡単 抵抗加熱電極により、最大400℃または1200℃まで可能 その場チェンバー洗浄および終端決定が可能 フォトニクスや誘電体層、パッシベーション、そして他の多くの用途について、窒化ケイ素と酸化ケイ素の高品質PECVDが可能 ハードマスクのデポジションおよび高輝度LED製造のエッチングに適用可能 グローバルな、お客様サポート オックスフォード・インストゥルメンツは、総括的で柔軟、かつ信頼できる、グローバルなお客様サポートをお約束しています。お客様のシステムが稼働している期間、高品質のサービスを提供します。 遠隔診断ソフトウェアにより、迅速で簡便な欠陥診断と問題解決を実現します。 ご予算と状況に合わせた、サポート契約も用意しております。 迅速な対応を実現するため、戦略拠点にグローバル予備品を揃えています。