超純粋窒素発生器 HP Zero 200 HC
高純度の実験用気相クロマトグラフィー用

超純粋窒素発生器 - HP Zero 200 HC - VICI AG International - 高純度の / 実験用 / 気相クロマトグラフィー用
超純粋窒素発生器 - HP Zero 200 HC - VICI AG International - 高純度の / 実験用 / 気相クロマトグラフィー用
超純粋窒素発生器 - HP Zero 200 HC - VICI AG International - 高純度の / 実験用 / 気相クロマトグラフィー用 - 画像 - 2
お気に入りに追加する
商品比較に追加する

特徴

ガスの特徴
高純度の, 超純粋
応用
実験用, 気相クロマトグラフィー用, TOC
形態
コンパクト
技術
PSA式, CMS, 分子ふるい炭素, 触媒リアクター
流量

0.2 l/min
(0.0528 us gal/min)

吐出圧力

5 bar
(72.52 psi)

ガス純度

99.999 %

定格出力

270 W
(0.4 hp)

詳細

概要
HP Zero 200 HC Towerは、フィルトレーションと圧力スイング吸着(PSA)を組み合わせ、独自のカーボン分子ふるい(CMS)を用いて超高純度窒素を生成するコンパクトな窒素発生器です。オプションの加熱触媒モジュールにより、GCなど感度の高い用途向けに炭化水素を低減します。ベンチトップ設置に適した省スペース設計です。

主な特長
  • 保証流量:200 mL/min
  • 純度:>99.999%
  • 炭化水素除去(加熱触媒選択時):<0.1 ppm(メタン換算)
  • 出口圧:最大5 barg(75 psig)
  • 省スペースのタワー設計、LED表示
  • 独自のCMSを用いたPSA技術
  • 標準保証:2年


用途
  • GCのキャリアガスおよびメイクアップガス(GC-FID)
  • 電子捕獲検出(ECD)
  • 蒸発光散乱検出(ELSD)
  • ヘッドスペースバイアルの加圧
  • TOC、DSCおよび高純度N2を要するその他の研究室用途


オプション
  • 加熱触媒(触媒オーブン):炭化水素を<0.1 ppmまで除去


技術仕様
流量:200 mL/min
純度:>99.999%
炭化水素(メタン換算、加熱触媒使用時):0.1 ppm
露点:-50 °C (-58 °F)
出口圧:最大5 barg(75 psi)
入口圧:7–10 bar(100–160 psi)
入口空気必要量 @8 barg:11 L/min
推奨コンプレッサー入口 @8 barg:22 L/min
圧力損失:1.5 barg(22 psig)
入口空気品質:ISO8573-1:2010 クラス 1.2.1 の清浄乾燥圧縮空気
技術:フィルトレーションおよびオプションの加熱触媒を備えたCMS PSA
ウォームアップ時間:60分
LED表示:電源、システム準備、エラー
電源:110–120V 60Hz / 220–240V 50Hz
消費電力:270 W
騒音レベル:最小限
本体寸法:175 W x 490 H x 670 D mm(6.9 x 19.3 x 26.4 in)
本体重量:26.9 kg(59.3 lb)
梱包寸法:770 W x 410 H x 590 D mm(30.3 x 16.1 x 23.2 in)
梱包重量:31.9 kg(70 lb)
動作温度:15–35 °C(59–95 °F)
接続:入口 1/4" コンプレッション、出口 1/8" コンプレッション
認証:CE、FCC

部品番号 / 識別子
Part# DB-N2T-200-O-EU(220V/50Hz)、Part# DB-N2T-200-O-US(115V/60Hz)。SKU: DB-N2T-200-O

VICI AG Internationalのその他の関連商品

Nitrogen Generators

*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。