粉末用分散機

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実験用分散機
実験用分散機
MaxShear

... 概要
MaxShear インラインディスパーサーは、コンパクトで低メンテナンス、費用対効果に優れたユニットで、インラインでの分散、均質化、乳化、および脱気処理向けに設計されています。連続処理や再循環プロセスの複数ポイントに設置して、粒子/液滴のサイズ低減や相の取り込みを向上させます。

カテゴリ
混合 / 脱気 / インライン分散

主な特長

  • 高せん断による微細な液滴/粒子サイズ低減
  • プロセスの複数箇所へ設置可能なコンパクト設計
  • 低メンテナンスで操作が容易
  • 導入コストおよび運用コストに優れる
  • 連続流や再循環方式に適合

用途
  • 乳化および均質化
  • 液体中への固形分の分散
  • 脱気およびインライン混合工程
  • 化学、コーティング、塗料、接着剤、化粧品等の産業プロセスへの組込み

仕様 ...

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Netzsch
実験用分散機
実験用分散機
MasterMix®

... 製品概要
MasterMix® Dissolver — 工業用途の混合、分散、脱気プロセス向けに設計された大容量・可変速の分散機です。

適用分野

  • 液体、ペースト、顔料系の混合および分散
  • 塗料、インク、接着剤の製造における脱気工程
  • 高速の分散が求められる高スループット生産ライン

主な特徴
  • 大容量設計により大量バッチ処理に対応
  • プロセス適応のための可変速駆動
  • 持続的なせん断・分散性能を確保する堅牢な駆動系
  • 混合、均質化、脱気操作に適合

製造元 ...

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Netzsch
実験用分散機
実験用分散機
Ψ-Mix®

... 製品概要
NETZSCH Ψ-Mix® は、連続工程向けに設計された工業用高せん断インラインディスパーサです。固体を液中で効率的に湿潤・分散し、処理の再現性を確保します。

主な機能

  • インラインでの粉体の湿潤と液体中への分散
  • 高せん断による迅速な凝集除去と粒子サイズ低減
  • 連続生産ラインへの組み込みを想定した設計
  • 脱気(ディエアレーション)やプロセス制御オプション


用途
  • 顔料、充填材、粉体を溶剤または水系に分散する工程
  • 塗料、コーティング、インクなどの連続生産ライン
  • 再現性のある分散品質が求められる化学配合
  • ミルやホモジナイザーなど下流装置への前処理(プレディスパージョン)


仕様 ...

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製薬産業用分散機
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Epsilon

... 概要
NETZSCHのEpsilon Inline Disperserは、連続的な工業プロセスでのインライン分散と脱気を目的に設計されています。固形分の液中への均一な分散と、工程の再現性・制御性の向上に寄与します。

製品名
Epsilon Inline Disperser (NETZSCH)

用途

  • 粉体/固形分の液体への分散
  • 連続生産ラインにおけるインライン混合および脱気プロセス
  • 塗料、インク、接着剤、顔料等の工程へのポンプや配管との統合


主な特長
  • 連続処理向けのインライン構成
  • 混入空気を低減する脱気機能
  • 一般的な産業用流体ハンドリングシステムとの互換性
  • プロセス統合と安定した分散制御を念頭に設計


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製薬産業用分散機
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EpsilonVita

... 説明
EpsilonVitaは、粉体を液体に効率的に湿潤・分散させるために設計されたインライン粉体ディスパーサーで、連続生産に適した低エネルギーの予備分散を実現します。

動作原理

  • ローターにより圧力差が発生します:吸引部の負圧で粉中の空気が膨張し、粉体が液体に取り込まれます。
  • 正圧領域では液体が粉体構造の内部に押し込まれ、凝集体の湿潤が改善されます。
  • このように湿潤された粉体は、より少ないエネルギーで細かく分散でき、再現性のある予備分散が可能になります。


用途
  • 製薬およびファインケミカルの配合(APIや賦形剤の分散)
  • インラインでの湿潤、脱気、ローター/スタター均質機やビーズミル前の準備
  • 安定した予備分散品質を必要とする連続生産ライン


主な利点
  • 製品の加熱が最小限
  • 剪断力の入力が低い
  • 粉体添加後の脱気(デエアレーション)
  • 湿潤と分散の効率化による時間短縮
  • 高い稼働可用性


仕様 ...

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寸法測定器用分散機
寸法測定器用分散機
GRADIS

... 自由落下による分散は、乾燥したフリーフローの製品で、凝集しにくい製品に適したオプションです。特に粗い粉体や繊細な顆粒は、重力によって加速され、測定ゾーンに入る際に穏やかに分散されます。GRADISは、ラボ用センサーHELOSとQICPIC、工業用センサーPICTISとともに、数マイクロメートルから10ミリメートルまでの粒子径および粒子形状の分析を提供します。細長い繊維やカールした繊維は、もっと長くなることもあります。 結晶、砂、顆粒など、高い分散エネルギーを必要としない製品に最適です。長さ50cmのフォールシャフトがスムーズな分散と制御を行い、レーザービームに提示される粒子の速度を均質化します。GRADISは、全ての乾式分散センサーの供給装置であるVIBRI/L(ソフトウェア制御)により供給されます。GRADISは通常、粒子捕集とラミナー気流生成のための抽出ユニットと一緒に使用されます。必要であれば、分析後に試料を回収して再利用することも可能です。 GRADISは非常に粗い粒子やキログラムまでのサンプル量の分析に使用することができます。フォールシャフトの出口スリットの幅は、2mm、4mm、10mmに手動で設定することができます。これは、画像分析アプリケーションで、粒子を画像対物レンズの作動距離内に保つために使用されます。非常に微細な粒子に対しては、排出口が1mmと0.5mmのセンタリングユニットが用意されています。10mmまでの粒子は、長さ20mmのフォールシャフトで分析されます。 ...

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寸法測定器用分散機
寸法測定器用分散機
OASIS/L

... OASISは強力な乾式と湿式の分散機を1台の装置に統合したものです。下部は定評のある乾式分散機RODOS、上部は定評のある湿式分散機SUCELLの特別仕様で構成されています。両装置はソフトウェアによる完全自動運転、またはコントロールパネルによる手動運転が可能です。 乾式分散と湿式分散の切り替えは、数秒以内に行われます。コントロールパネルのボタンを押すか、ソフトウェアでコマンドを与えると、フロースルー用のキュベットが測定位置に下ろされます。ポンプやスターラーの速度など、すべての分散パラメータが設定され、湿式分散器の運転準備が整います。2回目のコマンドでキュベットを保護ケースに戻します。これでRODOSの全てのパラメーターが設定され、乾式分散器の運転準備が整いました。 RODOSで乾式測定を行う場合、粉体サンプルの供給は精密振動フィーダーVIBRIによって行われ、一貫して制御された製品供給によって、測定ゾーンでのフリーエアゾールジェット内の最適なサンプル濃度を保証します。測定範囲、供給、分散を完璧に調整することで、製品に特化した正確で再現性の高いサブミクロン領域の粒度分布測定が可能になります。供給量、分散エネルギー、分散ラインの位置、測定値の記録トリガーは自動的に再現され、すべての測定において信頼性の高い測定が可能です。 湿式測定に切り替えると、SUCELLフローセルがボタン一つで測定範囲に広がります。 ...

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Sympatec GmbH
製薬産業用分散機
製薬産業用分散機
CMC-ATEX

... CMCミキシングユニットは、カルボキシメチルセルロース(CMC)、小麦粉、カルボポール、ペクチン、グアーガムやキサンタンガムなどのハイドロコロイド製品を高速で分散させるために設計されたシステムです。これらの添加剤は、増粘剤、ゼリー化剤、安定剤、複合化剤など、さまざまな特性を持っているため、産業界で広く使用されています。 本装置のATEXバージョンは、爆発性雰囲気を発生させる可能性のある製品用に設計されています。主な用途は、通常アルコールを多量に含むハイドロアルコールジェルの製造です。 ハイドロアルコールジェルの主な成分は以下の通りです: アルコール(エタノールまたはイソプロパノール) ...

寸法測定器用分散機
寸法測定器用分散機

... Powder Disperserは、スパイラルコンベア、リニアコンベア、バンカーなどの誘導負荷の無段階制御に使用される電子制御ユニットです。振動コンベアやバンカーの不必要な運転時間を回避し、バルク材を保護するために、材料レベルに合わせたレベルコントロールが統合されています。このレベル制御システムは、リニアフィーダー上のセンサー(イニシエーターやフォークライトバリアなど)を介して材料レベルをスキャンし、設定した遅延時間の終了時にフィーダーのスイッチをオン/オフします。 制御ユニットは位相角の原理で動作し、送出速度の調整は、ハウジングカバーに組み込まれた設定値ポテンショメーターでマグネット電圧を設定することで実現します。設定電圧の制御曲線は、基板上の2つのトリムポテンショメーターUminとUmaxによって制限することができ、常に設定電圧の全範囲を利用することができます。 出力電圧の電圧-時間面が設定される結果、発射パルスは、希望する値で設定可能なセットポイント電圧によって、正または負の主電源電圧半波の範囲内で無限にシフトすることができる。発振周波数6000S/minのフィーダーユニットでは、両方の(正と負の)主電源電圧半波が制御され、発振周波数3000S/minのフィーダーユニットでは、一方の主電源電圧半波のみが制御される。全波動作と半波動作の切り替えは、基板上のスライドスイッチで標準装備されています(接続オプションを参照)。 ...

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