セラミック用オーブン

温度域: 0 °C - 1,200 °C

... セラミック炉は、セラミックの種類ごとに最高の性能と信頼性を確保するために設計および製造されています。 電子真空制御付き。 大型 LCDディスプレイ付き。 石英チャンバー付き。 最高温度 1200 ℃ 自己校正プログラム。 手動キャリブレーション。 真空 759,5ミリメートル/Hg. 入力電圧は230V AC 50/60ヘルツです。 全体の寸法 40 幅 x 45 奥行きx 53 高さセンチ. 電源（ポンプなし）1200 W. 重量 29キロ。 EFP ...

温度域: 0 °C - 1,200 °C

... あらゆる種類のセラミックを焼成する伝統的なセラミック炉。電子基板制御、プログラム段階選択のための簡単な設定システム。全ての機能は調整可能。正確な実行。石英の加熱室 MS WARME UPモデル あらゆる種類のセラミックに対応する正確な業務用セラミック炉。圧縮空気駆動のピストンによってセラミック射出が作動します。射出工程は固形セラミックを塑性状態まで加熱した後に行われます。炉にはエアコンプレッサーを接続する必要があります。射出圧力は手動圧力レギュレーターで設定・調整でき、マノメーターで監視できます。 特徴 16ビットの強力なマイクロプロセッサー 自由に働く変数段階の広い選択のエンコーダー。それは15の機能の100までのプログラムを記憶できる ブルーライト付き大型LCDディスプレイによる鮮明な画像と直感的なユーザーインターフェース 冷却作用の速度と調整可能な真空レベル プログラム可能なフラッシュメモリー エクストラ 追加プログラム：焼成用80プログラム、プレスインジェクション技術用20特別プログラム。 最高のパフォーマンス 真空ポンプ 毎分50リットルのドライポンプ オイルレス メンテナンスが簡単で、非常に静か 出力 ...

温度域: 100 °C - 1,200 °C
容量: 2, 7, 12, 16 l

... 1.口元は鏡面ステンレスで、長期間使用しても変色しません。 2.二重絶縁セラミックライナー、安定した性能。 3.多結晶ムライト繊維炉を形成する真空、高効率の絶縁。 4.二重殻の中で、空気スリーブは絶縁され、二重案内空気通路がある。 5.高精度マイクロコンピューターコントローラーと精密センサーが完璧に統合され、温度が正確である。 SX4モデルには、次のような特徴もあります： 1.輸入時間制御システムと高精度センサーは、敏感で反応が良く、高精度で安定性が良い。 2.排気装置を追加することは、アッシングに有益です。 3.スプリットデザイン、回路は取り外し可能で、メンテナンスと修理が簡単です。 4.P型はプログラム温調タイプです。プログラム温調は多段プログラムが可能です。 ...

容量: 1,000, 1,200 l

... プログラム可能な高温マッフル炉 特別なベーキング プロセスのための高温マッフル炉は鉄の予熱とともに電子部品およびプラスチック化学製品の老化テストに使用することができ、焼入れ、焼跡、シチュー、アニーリング、灰化テスト、簡潔および他の高熱の処理実験、ect.Programmable 高温マッフル炉は焼ける プログラマブル高温マッフル炉 プログラム可能な高温マッフル炉/研究室のマッフル炉の特徴： 1.SECC鋼板の外側にファインパウダーペイント加工、内側に高温セラミックシリコンカーバイドを使用しています。 2.トップ発熱体、長寿命。 3.輸入PIDデジタル温度計、正確な温度制御、簡単な操作。 4.高速加熱と冷却、economicaとクイック。 5.過温度保護、負荷自動パワーオフシステム以上。 6.周期的なシステム: ...

温度域: 1,000, 1,300, 1,200 °C

... 1.シリーズ箱型抵抗炉は、冷間圧延鋼スプレー外装を採用しています。昇降式と水平移動式の扉により、内部の温度が均一で、高温下でも漏れることがない。 2.PID 2デジタルスクリーン・コントローラーまたはプログラマブル・コントローラーを要求に応じて使用します。コントローラは、タイミングと過温度保護の機能を持っています。 3.中温箱は密閉式ファイアポットを採用しています。炉壁に巻かれた加熱部材である螺旋状の電気合金線コイルを採用。効率的で耐久性に優れています。 4.高温管状炉は、高温耐火燃焼管を採用し、炭化ケイ素棒を加熱部材として火鍋の外側に固定します。 5.高温箱型抵抗炉は、炭化ケイ素棒を加熱成分として、火鍋の中に固定します。 6.保温材料は0.4-0.6軽セル保温棒とアルミナシリカセル綿を採用し、蓄熱と熱伝導率が低く、火鍋に大きな蓄熱、高速加熱、炉の表面温度は低く、高い効果があります。 オプションで付属品もあります：LCDコントローラー、プログラム温度制御装置、チムニー ...

温度域: 1,200 °C
容量: 3 l - 30 l

... マッフル炉は、安定したPID温度制御システムを採用したマイクロプロセッサ制御のチャンバーです。加熱速度15〜30分、高温でパワーダウンしない真空成型セラミックファイバーを採用しています。発熱体（HRE）の保護に優れ、温度均一性が保たれています。プリセットプログラムのワンプッシュ・スタート・ボタン、チャンバーのオーバーヒートに対する警告信号付き。 6Lマッフル炉は、マイクロプロセッサー制御の安定したPID温度制御システムです。加熱スピードは15〜30分、セラミックファイバーを真空成型しており、高温でもパワーダウンしません。発熱体（HRE）の保護に優れ、温度均一性が保たれています。プリセットプログラムのワンプッシュ・スタート・ボタン、チャンバーのオーバーヒートに対する警告信号付き。 8Lマッフル炉は、マイクロプロセッサー制御の安定したPID温度制御システムです。加熱スピードは15〜30分、セラミックファイバーを真空成型しており、高温でもパワーダウンしません。発熱体（HRE）の保護に優れ、温度均一性が保たれています。プリセットプログラムのワンプッシュ・スタート・ボタン、チャンバーのオーバーヒートに対する警告信号付き。 12Lマッフル炉は、マイクロプロセッサー制御の安定したPID温度制御システムです。加熱スピードは15〜30分、セラミックファイバーを真空成型しており、高温でもパワーダウンしません。 ...

温度域: 1,100 °C - 1,200 °C
容量: 12, 22, 4, 7 l

... カスタムメイドのマッフル炉で、動作温度範囲は1100～1200℃です。 様々な産業分野での応用が考えられます。 高温動作、マイクロプロセッサ制御による設定温度と実測温度の表示、加熱率のパーマイン、4種類のスタンバイプログラムと1種類のスタティックプログラム、故障・アラームコマンド、照光式ディスプレイ、実用的なボタン、停電時の安全プログラムを内蔵しています。 1日単位でのウィークリースケジュールのプログラムが可能です。 内部のガスを排出する換気システム。 想定される応用分野 有機および無機サンプルのマッフルテスト セラミックや磁器の製造 金属合金の溶解、焼きなまし、焼入れ 焼ならし、熱処理 熱老化 化学分解 熱衝撃試験 スペアパーツと最終製品の熱試験 ...