セラミック用オーブン

温度域: 1,000, 1,300, 1,200 °C

... 1.シリーズ箱型抵抗炉は、冷間圧延鋼スプレー外装を採用しています。昇降式と水平移動式の扉により、内部の温度が均一で、高温下でも漏れることがない。 2.PID 2デジタルスクリーン・コントローラーまたはプログラマブル・コントローラーを要求に応じて使用します。コントローラは、タイミングと過温度保護の機能を持っています。 3.中温箱は密閉式ファイアポットを採用しています。炉壁に巻かれた加熱部材である螺旋状の電気合金線コイルを採用。効率的で耐久性に優れています。 4.高温管状炉は、高温耐火燃焼管を採用し、炭化ケイ素棒を加熱部材として火鍋の外側に固定します。 5.高温箱型抵抗炉は、炭化ケイ素棒を加熱成分として、火鍋の中に固定します。 6.保温材料は0.4-0.6軽セル保温棒とアルミナシリカセル綿を採用し、蓄熱と熱伝導率が低く、火鍋に大きな蓄熱、高速加熱、炉の表面温度は低く、高い効果があります。 オプションで付属品もあります：LCDコントローラー、プログラム温度制御装置、チムニー ...

温度域: 0 °C - 1,100 °C

温度域: 0 °C - 1,100 °C

温度域: 1,200 °C
容量: 3 l - 30 l

... マッフル炉は、安定したPID温度制御システムを採用したマイクロプロセッサ制御のチャンバーです。加熱速度15〜30分、高温でパワーダウンしない真空成型セラミックファイバーを採用しています。発熱体（HRE）の保護に優れ、温度均一性が保たれています。プリセットプログラムのワンプッシュ・スタート・ボタン、チャンバーのオーバーヒートに対する警告信号付き。 6Lマッフル炉は、マイクロプロセッサー制御の安定したPID温度制御システムです。加熱スピードは15〜30分、セラミックファイバーを真空成型しており、高温でもパワーダウンしません。発熱体（HRE）の保護に優れ、温度均一性が保たれています。プリセットプログラムのワンプッシュ・スタート・ボタン、チャンバーのオーバーヒートに対する警告信号付き。 8Lマッフル炉は、マイクロプロセッサー制御の安定したPID温度制御システムです。加熱スピードは15〜30分、セラミックファイバーを真空成型しており、高温でもパワーダウンしません。発熱体（HRE）の保護に優れ、温度均一性が保たれています。プリセットプログラムのワンプッシュ・スタート・ボタン、チャンバーのオーバーヒートに対する警告信号付き。 12Lマッフル炉は、マイクロプロセッサー制御の安定したPID温度制御システムです。加熱スピードは15〜30分、セラミックファイバーを真空成型しており、高温でもパワーダウンしません。 ...

温度域: 1,100 °C - 1,200 °C
容量: 12, 22, 4, 7 l

... カスタムメイドのマッフル炉で、動作温度範囲は1100～1200℃です。 様々な産業分野での応用が考えられます。 高温動作、マイクロプロセッサ制御による設定温度と実測温度の表示、加熱率のパーマイン、4種類のスタンバイプログラムと1種類のスタティックプログラム、故障・アラームコマンド、照光式ディスプレイ、実用的なボタン、停電時の安全プログラムを内蔵しています。 1日単位でのウィークリースケジュールのプログラムが可能です。 内部のガスを排出する換気システム。 想定される応用分野 有機および無機サンプルのマッフルテスト セラミックや磁器の製造 金属合金の溶解、焼きなまし、焼入れ 焼ならし、熱処理 熱老化 化学分解 熱衝撃試験 スペアパーツと最終製品の熱試験 ...