Unidade de controle de fluxo Turbo™ 2950

de laboratóriode alta precisão

Baseados em tecnologia comprovada em campo, os controladores de fluxo de líquido MSP Turbo™ 2950 foram projetados para serem emparelhados com os vaporizadores MSP Turbo II™ para fornecer uma solução confiável e de alto desempenho para entrega de vapor líquido em processos de deposição de filmes finos de semicondutores (incluindo CVD, PECVD, ALD e MOCVD). Os controladores de fluxo de líquido Turbo™ 2950 contêm um sensor de fluxo de alta precisão e alta velocidade projetado sob medida e uma eletrônica de controle de fluxo meticulosamente projetada para fornecer o desempenho de classe mundial necessário para o processamento avançado de semicondutores. - Controle de Fluxo Preciso Os LFC 2950 integram sensores de fluxo e eletrônica de controle de líquido para regular a válvula Piezo nos vaporizadores Turbo II™ da MSP. Para vaporizadores sem uma válvula Piezo integrada, considere a série 2950V Turbo™ LFC para um controle de fluxo eficaz. - Aplicações - Processos de deposição de filmes finos de semicondutores - Deposição química de vapor (CVD) - Deposição química de vapor assistida por plasma (PECVD) - Deposição de camadas atômicas (ALD) - Deposição química de vapor de metais orgânicos (MOCVD) - Aplicações com requisitos de taxa de fluxo constante - Características e Benefícios - Taxa de fluxo fixa - Precisão e linearidade excepcionais - Tempo de resposta ultra-rápido - Repetibilidade superior - Opções de ampla faixa de fluxo - Modelos Turbo™ LFC Disponíveis - Número do modelo: 2950-002, 2950-01, 2950-05, 2950-10, 2950-20, 2950-30 - Escala completa TEOS* (g/min): 0.2, 1, 5, 10, 20, 30 - Escala completa TEMAZr (g/min): n/a, 0.19, 0.95, 1.9, 3.8, 5.7 - Escala completa H2O (g/min): 0.14, 0.73, 3.6, 7.3, 14, 21 *O fluxo máximo nominal é determinado usando TEOS como líquido de referência a 23±2°C. A faixa de taxa de fluxo é uma função do líquido especificado. - Marca: TSI (MSP Turbo™) - Modelo: 2950-01 (outros modelos disponíveis: 2950-002, 2950-05, 2950-10, 2950-20, 2950-30) - Aplicação: Deposição de filmes finos de semicondutores (CVD, PECVD, ALD, MOCVD) - Características: Taxa de fluxo fixa, alta precisão, resposta rápida, repetibilidade, ampla gama