Sistema de produção PlasmaPro 100

Os módulos PlasmaPro 100 RIE proporcionam gravação a seco isotrópica e anisotrópica para uma vasta gama de processos. É adequado para clientes de investigação e produção, proporcionando um ambiente controlado que melhora a repetibilidade do processo com opções de bloqueio de carga e cassete a cassete. Compatível com todos os tamanhos de bolacha até 200 mm Processamento de um único wafer ou de lotes com excelente controlo do processo Elevado controlo dos gases e da potência do plasma Mudança rápida entre tamanhos de wafer Baixo custo de propriedade e facilidade de manutenção Excelente uniformidade, alto rendimento e processos de alta precisão Limpeza da câmara in-situ e ponta final Elétrodo com ampla gama de temperaturas, -150°C a 400°C Visão geral A corrosão iónica reactiva (RIE) é um processo de corrosão predominantemente físico. É criado um plasma rico mesmo acima da bolacha e os iões são acelerados em direção à superfície para produzir uma gravação potente e altamente anisotrópica. O gás entra no topo da câmara, onde é convertido num plasma reativo a baixa pressão por uma fonte de RF ao nível da bolacha. Os iões interagem com a amostra, formando subprodutos do ataque, ou permanecem como espécies que não reagiram. Todas as espécies não reagidas e os subprodutos são removidos da câmara pela bomba de vácuo para manter um plasma rico e ativo, de modo a manter elevadas taxas de corrosão. O PlasmaPro 100 RIE fornece espécies reactivas ao substrato, com um caminho uniforme de alta condutância através da câmara, permitindo a utilização de um elevado fluxo de gás, mantendo a baixa pressão. - Características Elétrodo com uma vasta gama de temperaturas (-150°C a +400°C) que pode ser arrefecido com azoto líquido, um refrigerador de recirculação de fluido ou aquecido por resistência.