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窒素ガス発生装置 ZEFIRO DUAL PURITYLC/MS用移動式超高純度
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特徴
- ガスの種類
- 窒素
- 応用
- LC/MS用
- 形態
- 移動式
- その他の特徴
- 超高純度
- 流量
35 l/min, 65 l/min, 200 l/min, 1,100 l/min
(9.246 us gal/min, 17.1712 us gal/min, 52.8344 us gal/min, 290.5893 us gal/min)- 出口圧力
2.5 bar, 6.5 bar, 7 bar, 7.2 bar
(36.26 psi, 94.27 psi, 101.53 psi, 104.43 psi)- ガス純度
98 %, 99 %, 99.9 %
- 公称出力
1,800 W, 1,900 W
(2.4 hp, 2.6 hp)
詳細
ZEFIROの窒素発生装置LC/MS DUAL PURITYは、AGILENT LCMS装置のガス流量、純度、圧力の要件を満たすように特別に設計されています。
このシステムは、LC/MS用の窒素とコリジョンセル用の超高純度窒素を同時に供給します。
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