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窒素ガス発生装置 ZEFIRO 45 DUAL PURITYLC/MS用移動式超高純度
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特徴
- ガスの種類
- 窒素
- 応用
- LC/MS用
- 形態
- 移動式
- その他の特徴
- 超高純度
- 流量
45 l/min, 300 l/min
(11.8877 us gal/min, 79.2516 us gal/min)- 出口圧力
6 bar
(87.02 psi)- ガス純度
99.9 %
- 公称出力
1,900 W
(2.6 hp)
詳細
ゼフィーロ窒素発生装置45 DUAL PURITYは、サーモフィッシャー社製エクスプローリスのガス流量、純度、圧力の要求を満たすために特別に設計されています。
LC/MS用窒素とコリジョンセル用超高純度窒素を同時に供給するシステムです。
入力電圧 - 230 V - 50または60 Hz
圧力の正確さ 0.1 bar（± 0.5 %）。
マイクロプロセッサ制御のディスプレイ - グラフィックディスプレイ、128 x 64 px
保護等級ip20
温度 - 5°C ～ +30°C
相対湿度 0～80％、非凝縮性
音圧レベル - 55 dB(A)
出力ポート n°2 1/4 g
ケースの寸法 幅48cm、高さ70cm。
長さ84cm
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