O Hitachi Ethos FIB-SEM incorpora um FE-SEM de última geração com um brilho e uma estabilidade do feixe excecionais. O Ethos proporciona imagens de alta resolução a baixas tensões, combinadas com ótica iónica para um processamento com precisão à escala nanométrica.
Características
Características principais
1. Coluna FE-SEM de alto desempenho com modo de lente dupla
Observação de ultra-alta resolução (modo HR: semi-in-lens)
Detecção de ponto final de alta precisão em tempo real (modo FF: Field Free (modo de partilha de tempo))
2. Processamento de materiais de alto rendimento
Processamento ultrarrápido com elevada densidade de corrente iónica (corrente máxima do feixe: 100 nA)
Script programável pelo utilizador para processamento e observação automáticos
3. Sistema de microamostragem
Controlo totalmente integrado da orientação da amostra para o efeito anti-cortina (tecnologia ACE)
Preparação de amostras para TEM com lamelas uniformes em qualquer orientação
4. Capacidade para feixe triplo, proporcionando resultados de qualidade avançada
Processamento de materiais com feixe de iões de gás nobre de baixa aceleração
Funções inovadoras reduzem os artefactos de fresagem relacionados com iões de Ga e outros
5. Câmara multiportas de grandes dimensões e platina para diversas aplicações
Sistema com capacidade para amostras de grandes dimensões e com estabilidade excecional da plataforma
Rastreio de longa distância melhorado em toda a gama (155 x 155 mm)
Ótica de eletrões aperfeiçoada e deteção multissinal
A coluna do SEM Ethos é composta por um sistema de lentes objetivas composto por campos magnéticos e eletrostáticos, configurado em dois modos de lente. O modo de Alta Resolução (HR) permite a observação da amostra com a máxima resolução, imergindo a amostra no campo magnético do sistema de lentes. O modo Sem Campo (FF) oferece processamento FIB em tempo real para fresagem de ponto final de alta precisão.
---