Sistema de revestimento de superfícies automático EM ACE600

automáticode laboratório

Visão geral
Prepare filmes finos de grão fino para microscopia eletrônica com o sputter coater EM ACE600. Processos automatizados e precisos de deposição de carbono e metais fornecem resultados reprodutíveis e aumentam a produtividade de amostras. Somente para uso em pesquisa.

Capacidades principais

• Coater de alto vácuo configurável para múltiplas fontes: sputter, fio de carbono, haste de carbono e e‑beam.
• Câmara de processo metálico com duas fontes, permitindo até duas fontes diferentes em uma única execução sem quebrar o vácuo.
• Processos automatizados baseados em receitas e carregamento pela porta frontal para manuseio seguro e conveniente.
• Suporte a workflows cryo: interface de transferência cryo, estágio cryo e dispositivo básico de fratura para deposição sob condições criogênicas e transferência cryo para SEM.
• Opção de sombreado rotativo (LARS) com fonte e‑beam e estágio LARS motorizado para deposição em ângulo baixo de estruturas na escala nanométrica.
• Interface touchscreen baseada em workflow para execução simples de processos rotineiros com um único botão.

Revestimento por sputter
Produza revestimentos por sputter finos e reprodutíveis. O sistema alcança um excelente vácuo base (< 2 x 10-6 mbar padrão) com opção de armadilha de Meissner para atingir o regime de 10-7 mbar. Distância da amostra e ângulo de revestimento ajustáveis, além de um estágio giratório, permitem revestimentos uniformes e otimização do processo para diferentes morfologias e alvos. Projetado para análise SEM em alta ampliação (até ~200kX e além).

Revestimento de carbono
Deposite filmes de carbono ultrafinos e homogêneos por evaporação de fio de carbono, evaporação de haste de carbono ou evaporação e‑beam. Leica adaptive pulsing para fio de carbono fornece filmes amorfos precisos com controle subnanométrico minimizando o impacto térmico. Adequado para camadas de suporte TEM, revestimentos de proteção difusos e grandes camadas homogêneas de carbono. Evaporação e‑beam disponível para aplicações que exigem baixa divergência do feixe, como sombreado rotativo.

Adaptabilidade & configuração

• Conceito otimizado de duas fontes com portas anguladas e estágio giratório para distribuição uniforme em um estágio completo de 100 mm.
• Escolha de cabeças: fio de carbono, haste de carbono, e‑beam e sputter; opção de glow discharge.
• Atualizável no local com ampla seleção de suportes de amostra e estágios (estágio motorizado 3‑eixos, estágios rotativos/manuais, estágio de resfriamento dedicado).
• Pratos de estágio de troca rápida para workflows multiuso de laboratório.

Benefícios operacionais

• Carregamento pela porta frontal para manuseio seguro de amostras sensíveis.
• Fontes leves e fáceis de manusear para operação diária.
• Receitas automatizadas e processamento baseado em receitas para reprodutibilidade e aumento do rendimento.

Aplicações

• Imagem SEM de alta resolução de espécimes não condutivos, planos ou estruturados.
• Aprimoramento de contraste de estruturas na escala nanométrica (proteínas, DNA) via sombreado rotativo e deposição metálica.
• Produção de filmes suporte para TEM (camadas de carbono ultrafinas 1–5 nm, cozidas para reduzir contaminação).
• Preparação de amostras cryo‑SEM e workflows de transferência criogênica.

Especificações técnicas

• Modelo: EM ACE600
• Tipo: Coater de alto vácuo para carbono, e‑beam e sputter
• Vácuo base: < 2 x 10-6 mbar (padrão)
• Melhoria de vácuo opcional: armadilha de Meissner até o regime 10-7 mbar
• Fontes suportadas: sputter, evaporação fio de carbono, evaporação haste de carbono, evaporação e‑beam
• Câmara de processo metálico configurável de duas fontes (até duas fontes diferentes em um processo)
• Cobertura do estágio: otimizada para uniformidade total em 100 mm
• Distância da amostra e ângulo de revestimento ajustáveis; estágio giratório para deposição homogênea
• Controle de espessura de filme de carbono: deposição precisa (filmes ultrafinos típicos 1–5 nm)
• Capacidade de sombreado rotativo (LARS) para deposição metálica em ângulo baixo
• Compatibilidade cryo: interface de transferência cryo, estágio cryo, dispositivo básico de fratura
• Carregamento: porta frontal para manuseio seguro
• Interface do usuário: touchscreen baseada em workflow, processamento automatizado por receitas
• Atualizável: opções de atualização no local (fontes, estágios, glow discharge)
• Uso pretendido: Somente para uso em pesquisa