Naberthermのセラミック用オーブン

温度域: 0 °C - 1,100 °C

温度域: 0 °C - 1,200 °C

... セラミック炉は、セラミックの種類ごとに最高の性能と信頼性を確保するために設計および製造されています。 電子真空制御付き。 大型 LCDディスプレイ付き。 石英チャンバー付き。 最高温度 1200 ℃ 自己校正プログラム。 手動キャリブレーション。 真空 759,5ミリメートル/Hg. 入力電圧は230V AC 50/60ヘルツです。 ...

温度域: 100 °C - 1,200 °C
容量: 2, 7, 12, 16 l

... 1.口元は鏡面ステンレスで、長期間使用しても変色しません。 2.二重絶縁セラミックライナー、安定した性能。 3.多結晶ムライト繊維炉を形成する真空、高効率の絶縁。 4.二重殻の中で、空気スリーブは絶縁され、二重案内空気通路がある。 5.高精度マイクロコンピューターコントローラーと精密センサーが完璧に統合され、温度が正確である。 SX4モデルには、次のような特徴もあります： 1.輸入時間制御システムと高精度センサーは、敏感で反応が良く、高精度で安定性が良い。 2.排気装置を追加することは、アッシング ...

容量: 1,000, 1,200 l

... PIDデジタル温度計、正確な温度制御、簡単な操作。 4.高速加熱と冷却、economicaとクイック。 5.過温度保護、負荷自動パワーオフシステム以上。 6.周期的なシステム: 熱放射の自動パワーオフ システム。 7.気体を通すことができる。 8.温度調節器：PIDマイクロコンピュータ制御、自動定温、急速温度補償。 9.タイマー：温度が達成したときにタイミングを開始し、時間がオーバーしているときにパワーオフとアラーム。 ...

温度域: 1,000, 1,300, 1,200 °C

... 。 5.高温箱型抵抗炉は、炭化ケイ素棒を加熱成分として、火鍋の中に固定します。 6.保温材料は0.4-0.6軽セル保温棒とアルミナシリカセル綿を採用し、蓄熱と熱伝導率が低く、火鍋に大きな蓄熱、高速加熱、炉の表面温度は低く、高い効果があります。 オプションで付属品もあります：LCDコントローラー、プログラム温度制御装置、チムニー ...

温度域: 1,200 °C
容量: 3 l - 30 l

... マイクロプロセッサ制御のチャンバーです。加熱速度15〜30分、高温でパワーダウンしない真空成型セラミックファイバーを採用しています。発熱体（HRE）の保護に優れ、温度均一性が保たれています。プリセットプログラムのワンプッシュ・スタート・ボタン、チャンバーのオーバーヒートに対する警告信号付き。 6Lマッフル炉は、マイクロプロセッサー制御の安定したPID温度制御システムです。加熱スピードは15〜30分、セラミックファイバーを真空成型しており、高温でもパワーダウンしません。発熱体（HRE）の保護に優れ、温度均一性 ...

温度域: 1,100 °C - 1,200 °C
容量: 12, 22, 4, 7 l

... マイクロプロセッサ制御による設定温度と実測温度の表示、加熱率のパーマイン、4種類のスタンバイプログラムと1種類のスタティックプログラム、故障・アラームコマンド、照光式ディスプレイ、実用的なボタン、停電時の安全プログラムを内蔵しています。 1日単位でのウィークリースケジュールのプログラムが可能です。 内部のガスを排出する換気システム。 想定される応用分野 有機および無機サンプルのマッフルテスト セラミックや磁器の製造 金属合金の溶解、焼きなまし、焼入れ 焼ならし、熱処理 熱老化 化学分解 熱衝撃試験 スペアパーツ ...