Naberthermのセラミック用オーブン

温度域: 1,100, 1,200 °C
容量: 3 l - 60 l

... 、追加料金なしで、フラップドアまたはリフトドアからお選びいただけます。 標準タイプ セラミック熱板による二面加熱方式（マッフル炉L 24/11～LT 60/12では三面加熱）し、最適な温度均一性を達成します 動作温度が 800 °C を超える場合は、有効空間に DIN 17052-1 に基づく閉じた給気仕切弁を取り付け、+/- 5 K の温度均一性を実現します 加熱線が内蔵されたセラミック製加熱プレート、保護されており、容易に交換できます EC ...

温度域: 1,100 °C
容量: 9 l

マッフル炉 L 9/11/SKM は、攻撃的な物質を熱処理する場合に最適です。炉には、4 面からの加熱が埋め込まれたセラミック製マッフルが実装されています。このマッフル炉は、温度均一性に大変優れており、発熱体を攻撃的な雰囲気から保護します。また、滑らかでほとんどホコリのないマッフル（ファイバー断熱製の炉扉）も優れた品質特性です。 標準タイプ 4面のマッフル加熱 炉内セラミックマッフル、刺激性のガスや蒸気に対する高度の耐性 EC ...

温度域: 1,100 °C
容量: 3, 5, 9, 15 l

... プロセス用に特別設計されています。用途としては、例えば、焼鈍中の重量減検出、物質分析のための食品やプラスチックの焼却などがあります。特殊給気・排気システムによって、1 分当たり 6 倍の空気交換を達成し、灰化プロセスのために十分な酸素を常に確保します。送り込まれた空気は炉の加熱装置を通過して予熱されます。こうすることで、優れた温度均一性を確保します。 標準タイプ 二面加熱方式 加熱線が内蔵されたセラミック製加熱プレート、保護されており、容易に交換できます。 1分につき6回以上の空気入換え 流入する空気 ...

温度域: 1,100 °C
容量: 9, 24, 40 l

灰化炉L ../11 BO は、沢山のサンプルを灰化しなければならないプロセス用に特化しています。利用範囲としては、食品の灰化や射出成形工具の熱洗浄、焼損測定などです。その他の利用については、積層造形後などのセラミック製品の脱バインダーとしても使用できます。 灰化炉には、受動的安全システムと装備された排ガス後処理がついています。排ガスファンにより、炉から煙ガスを吸引し、同時に炉の雰囲気に新鮮な空気を供給します。それにより、絶えず十分な酸素が灰化プロセス中に行き渡ります。生じた空気は炉の加熱の ...

温度域: 1,100, 1,200 °C
容量: 9 l

... ) 機種と同様 架台、炉室内のベースプレートとセラミック製プランジャー、精密計量器、ソフトウェアパッケージを含む商品構成 異なる最大秤量と測定範囲の選択が可能な4種の計量器 監視、記録、制御用のVCDソフトウェアパケットで温度と強熱減量のプロセス制御と記録 コントローラ B510（それぞれ 4 つのセグメントのある 5 つのプログラム） 付属装置 排気ダクト、換気扇または触媒式排気ガス浄化装置付き 停止温度を調節できる温度リミッターで炉とチャージを過熱から保護 熱電対のダクト ...

温度域: 1,300, 1,280 °C
容量: 3.7 l - 73 l

... 断熱材だけを使用 セラミック製マッフルが発熱体と断熱材を保護します 炉室は支持管上の発熱体で 3 面（床と両側）から加熱します 煙道システムには、現場での排気システム接続用に、炉天井と扉領域の上部に排気フードが統合されています 手動リフトドア 操作説明書の枠内における規定どおりの使用 ナーバサーム・コントローラー用NTLog Basic、プロセスデータをUSBスティックに記 ...

温度域: 1,300 °C
容量: 12, 25 l

典型的な速焼プロセスから最高焼成温度までのシミュレーションにはこの速焼炉が最適です。性能の高さ、低減な熱量、効率の高い冷却送風の組合わせによって冷却時から冷却時への周期をオーブン開口時約300 ℃で約35分にまで短縮することができます。 標準タイプ セラミック製の管状キャリア上に置かれるワーク 炉床と炉天井からの加熱、個別に制御可能 発熱体の特殊配列で最適な温度均一性を確保 迅速な切り替えサイクルで精密な温度均一性を確保 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ...

温度域: 1,200 °C

... 真空焼成炉 VL 01/12 LB は通常のセラミック単板の常圧または真空下での焼成に最適です。炉室の全周加熱により、温度均一性が非常に高く、昇温時間も非常に速いです。下降可能な電動モーター駆動の昇降テーブルにより、焼成室への装入が容易で便利です。 特別に開発された制御装置D580はカラフルで高コントラストの6.8インチタッチディスプレイを装備しています。大きなタッチスクリーンで直感的なプログラム入力が可能です。プログラムはグラフや表形式で表示できます。真空焼成炉は自由にプログラム可能です。ナーバー・サーム・ウェブサイト ...

温度域: 1,200 °C

... 真空プレス炉 VL 01/12 LB Press は、常圧または真空下での従来型セラミック単板の焼成に最適なだけでなく、一般的なプレス用セラミック全般の処理にも適しています。炉室の全周加熱により温度均一性が極めて高く、迅速な昇温が可能です。下降可能な電動モーター駆動の昇降テーブルにより、プレス工程での取り扱いが容易で便利です。 特別に開発された制御装置D580はカラフルで高コントラストの6.8インチタッチディスプレイを装備しています。大きなタッチスクリーンで直感的なプログラム入力が可能です。プログラム ...

温度域: 0 °C - 1,650 °C
容量: 1 l - 4 l

... この高温炉は半透明のジルコニア製ブリッジやクラウンの焼結に最適です。二珪化モリブデン製の特殊発熱体は、装入物と炉部品との化学的相互作用に対して非常に優れた保護を約束します。ブリッジとクラウンはセラミック製サガーに装填されます。この高温炉は価格性能比が非常に優れているため、特に説得力があります。炉はほぼすべてのジルコニウムメーカーが推奨するすべての焼結曲線を個別にプログラムできます。 容積 1 または ...