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温度域: 1,100 °C
... 概要
RSRBシリーズの回転式管状炉は、バッチ（間欠）処理向けに設計されています。石英製作業管の回転によりチャージが移動し、先細の管端が長時間の処理中に材料を保持します。温度プロファイルによる制御加熱が可能です。
標準装備
- 最高温度 最大1100 °C
- 標準は単一加熱ゾーン
- 低い外面温度と機械的安定性を実現するステンレス製二重外装（通気構造）
- 断熱材はEC規則1272/2008（CLP）により分類されない材料を使用（ケイ酸アルミニウム繊維/RCFは不使用）
- 温度センサー:
Nabertherm
温度域: 1,600 °C
... 説明
RHTCシリーズのこのコンパクトな管状炉は、SiC棒状発熱体と制御盤（タッチコントローラー P580）を備えています。多様な高温プロセスに適合し、優れた温度均一性とアクセサリー取付けの柔軟性を提供します。産業用途向けに設計されています。
標準装備
- 最高温度 1600 °C（連続運転の推奨作業温度 1500 °C）
- 作業管に平行配置された SiC 棒状加熱体により高い均一性を実現
- セラミック作業管
Nabertherm
温度域: 1,350, 1,400 °C
容量: 45 l
... 製品概要
Labotemp 真空炉 FVA-17 は、精密な真空熱処理、焼結および高温材料処理向けの研究室用真空炉で、最大 1400 °C（使用温度 1350 °C）に対応します。45 L チャンバー、SiC ロッド加熱素子、S 型熱電対対応の Shimaden プログラマブルコントローラを装備。高真空および不活性ガス（Ar/N₂）での運転が可能で、深真空処理向けの多段ポンプ構成に対応します。高温での安定運転には水冷と産業用チラーが必要です。
主なポイント
- 高温対応：最大
Labotemp Systems
温度域: 1,400 °C
... 製品概要
Labotemp FMT-10 は、最大1400°C（使用温度 ≤1300°C）までの高温熱処理用研究室向け管式炉です。外径 ∮80 mm のコランダム（アルミナ）管、350 mm の単一加熱ゾーン、炉管全長1000 mm を備え、SiC 加熱棒と PID 制御、30セグメント時温プログラムにより精密で再現性の高い温度プロファイルを実現します（精度 ±1°C、均一性 ±5°C）。
用途
- 高温材料の合成・焼結
- アニールおよび結晶成長
- 粉末冶金・セラミックスの処理
- 半導体の拡散やコーティング開発
- 雰囲気制御下での研究用熱処理実験
主な利点
- 最大1400°Cまで動作可能
- PID自動制御による正確な温度プロファイル（±1°C）
- SiC
Labotemp Systems
温度域: 1,400 °C
... 製品概要
Labotemp FMT-11 は、研究開発および実験室向けのコランダム製チューブ炉で、最高 1400°C（推奨使用温度 ≤1300°C）まで対応します。∮40 mm のコランダム炉管、440 mm の単一加熱ゾーン、炉管全長 1200 mm を備えます。S 型熱電対、SiC 加熱体、酸化アルミナ系セラミックファイバー断熱により、コンパクトな 794×590×800 mm の設置面積で安定した温度制御と再現性を提供します。
主な特長
- 昇温速度：0–20°C/min
- 最高温度：1400°C；推奨動作温度
Labotemp Systems
温度域: 1,700 °C
... 製品概要
Labotemp 管状炉 FMT-18 は、最大1700°C（使用温度 ≤1550°C）までの超高温処理に対応する高精度な水平管状炉です。∮80 mm のコランダムチューブ、標準加熱ゾーン 440 mm、炉管全長 1200 mm、チャンバー 80×440 mm を備えています。MoSi₂ 加熱棒、B 型熱電対、PID 制御、30 段プログラムにより、±1°C の温度精度と ±5°C の均一性を、0–20°C/min の昇温速度で実現します。チャンバーは酸化アルミニウム系セラミックファイバーで断熱されています。
主な利点
- 大試料対応：内径
Labotemp Systems