DM8000 MおよびDM12000 M検査システムで試料をより深く把握することにより、製品の品質に関する判断力を向上させ、時間を節約することができます。
半導体やウエハーのような材料の迅速で信頼性の高い検査と分析を行い、品質管理や欠陥の迅速な検出を可能にします。
隠れた細部を明らかに
欠陥の検出と試料概観の迅速な実施により、分析と判断を向上させます。
作業方法を最適化
自動化とユーザーフレンドリーな操作により、調整の必要性を最小限に抑え、検査プロセスの時間を節約します。
安全で管理された環境でユーザーの快適性を維持
リラックスした姿勢で作業できるため、検査プロセス全体を通じて最適な快適性を確保でき、生産性の向上に役立ちます。
微細な構造や欠陥を素早く視覚化
大きなワーク表面の、傷や不純物、コンタミなどの様々な構造や欠陥を検出して分析できます。明視野、暗視野、偏光、微分干渉コントラスト(DIC)、蛍光(Fluo)、赤外(IR)など、豊富な照明・コントラスト方式から選択でき、迅速かつ確実な検査が可能です。紫外線(UV)を光源に利用することで解像度を向上させます。
さらに、斜め照明でより多くの表面情報を得ることができます。UVと組み合わせて、コントラストがさらに高まります。
Plan Fluotar対物レンズ(20倍、50倍、100倍)を利用した暗視野観察により、高いコントラストが得られるため、破面分析でより素早く欠陥を見つけることができます。