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温度域: 1,700 °C
... 製品概要
Labotemp FMT-17 は、1700°C（動作 ≤1550°C）までのラボおよび小規模生産向け高温処理用に設計された精密な水平管式炉です。∮40 mm のコランダム管を内蔵し、440 mm の単独加熱ゾーン（炉管全長 1200 mm）、MoSi₂ 加熱棒、B 型熱電対、PID 自動制御を備え、コンパクトな 794×590×800 mm の設置面積で迅速な昇温と安定した温度制御を実現します。
特長
- 耐火アルミナ断熱およびアルミナセラミックファイバー製チャンバーによる熱効率
- 定格最高温度
Labotemp Systems
温度域: 1,700 °C
... 製品概要
Labotemp 高温管状炉 FMT-13 は、最大1700°C（使用温度 ≤1550°C）までの過酷な熱処理向けに設計された精密実験用管状炉です。∮40 mm のコランダム管、205 mm の単一水平加熱ゾーン、合計チューブ長800 mm を備えます。MoSi₂ 加熱棒、PID 制御、30 段の温度プログラムにより ±1°C の温度精度と ±5°C の均一性を実現します。S/B 型熱電対の選択とアルミナセラミックファイバーチャンバーにより、630×590×767 mm ...
Labotemp Systems
温度域: 1,400 °C
... 製品概要
Labotemp FMT-11 は、最高1400°C（推奨動作温度 ≤1300°C）まで対応する高温コランダム（アルミナ）製チューブ炉です。∮40 mm のコランダムチューブ、440 mm の単一加熱ゾーン、総チューブ長1200 mm を備えます。S 型熱電対、SiC 加熱体、アルミナ製セラミックファイバー断熱により、コンパクトな 794×590×800 mm の設置スペースで安定した再現性の高い運転を実現します。
推奨用途
- 高温材料合成
- 焼結およびアニール
- 結晶成長
- 粉末冶金
- セラミック加工
- 半導体の拡散・コーティング開発
- 研究室での熱処理実験
主なポイント
- 最大到達温度
Labotemp Systems
温度域: 1,400 °C
... 概要
Labotemp 高温管状炉 FMT-08 は、最大 1400°C（動作 ≤1300°C）までの熱処理に対応する研究用精密管状炉です。∮80 mm のコランダム管、205 mm の単一加熱ゾーン、総管長 1000 mm を備えています。SiC 加熱棒と PID 自動制御、30 セグメントの時間-温度プログラムにより ±1°C の精度と ±5°C の均一性を実現します。S 型熱電対とアルミナセラミックファイバー断熱により、630×590×767 mm のコンパクトな設置で安定した運転が可能です。
Labotemp ...
Labotemp Systems
温度域: 1,200 °C
... 製品概要
Labotemp 真空管状炉 FMT-04 は、最大 1200°C（使用温度 ≤1100°C）までの精密熱処理に対応するコンパクトで高効率な真空管状炉です。∮80 mm の石英管、350 mm の加熱ゾーン、総管長 1000 mm、および 80×350 mm のチャンバーを備えています。抵抗線加熱と PID 自動制御、30 セグメントのプログラム可能プロファイルにより ±1°C の精度と ±5°C の温度均一性を実現します。酸化防止設計とアルミナ繊維セラミック断熱により熱効率が確保されています。
用途
- 材料合成
- アニーリング
- 焼結
- 半導体プロセス
- 粉末冶金
- ナノ材料の調製
- 研究および産業用途における熱安定性試験
主な特長
- 汚染のない処理を実現する酸化防止の真空管構造
- 最大温度
Labotemp Systems
温度域: 1,200 °C
... 製品概要
Labotemp 真空管式炉 FMT-03 は、1200°C までの均一な熱処理を目的に設計された研究用真空管式炉です（運転温度 ≤1100°C）。φ40 mm 高純度石英管、加熱ゾーン350 mm、チューブ全長1000 mm を備えます。抵抗線加熱素子と PID 制御、30 セグメントのプログラム可能な温度プロファイルにより、±1°C の制御精度と ±5°C の温度均一性で再現性のあるサイクルを実現します。オプション装備により雰囲気制御処理に対応し、研究用途および小規模生産での使用を想定しています。
主な利点
- プログラム可能な温度プロファイルを持つ精密な
Labotemp Systems
温度域: 1,200 °C
... 製品概要
Labotemp 水平管状炉 FMT-01 は、最大 1200°C（使用温度 ≤1100°C）までの精密な熱処理向けに設計されたコンパクトな実験室用管状炉です。高純度石英管∅40 mm、205 mm の単一加熱ゾーン、SiC 加熱棒と抵抗線要素を PID 制御で組み合わせ、±1°C の制御精度と ±5°C の温度均一性を実現します。水平設計とアルミナセラミックファイバー製チャンバーにより、試料の出し入れが容易で熱効率が向上します。
主な利点
- 高精度温度制御：PID
Labotemp Systems
温度域: 1,100 °C
... 管状炉 RD 30/200/11 は優れた費用対効果、大変コンパクトな外形寸法と軽量設計が特長です。このオールラウンダーには、加熱線のサポートとして機能も兼ねた作業管が装備されています。作業管は炉の加熱の必須部分であり、管状炉で大変高い加熱速度を達成できるという利点があります。この炉は最高温度 の水平運転向けに設計されています。 標準タイプ EC 規則 No 1272/2008（CLP）に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用 管内径: 30 mm、加熱長さ: ...
Nabertherm
温度域: 1,200, 1,300 °C
... このコンパクトな管状炉には切替システムと制御システムが内蔵されています。汎用性があるので、多くのプロセスで使用できます。C 530 製の作業管と 2 個のファイバープラグが標準装備されています。優れた費用対効果の管状炉です。 標準タイプ １ゾーンタイプ 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ケーシング EC 規則 No 1272/2008（CLP）に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用 管外径50 mm～170 mm、加熱長250 ...
Nabertherm
温度域: 1,100, 1,300, 1,500 °C
... この管状炉シリーズは、実験が水平式、直立式、または一定の角度設定で実施される場合に最適の機種です。傾斜角度と作業位置の高さの設定が自在で構造がコンパクトなので、この管状炉はすでにご使用のプロセス装置への統合用としても高い性能を発揮します。 標準タイプ コンパクト設計 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ケーシング EC 規則 No 1272/2008（CLP）に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用 直立式、または水平式動作を無段階調節できます 角度を ...
Nabertherm
温度域: 1,600 °C
... このコンパクトな管状炉には SiC 棒状加熱装置およびコントローラのある統合切替システムが装備されています。汎用性があるので、多くのプロセスで使用できます。高温領域での手ごろな価格のタイプです。アクセサリーの取付けオプションを標準利用できるので、その他の用途領域向けに柔軟に使用できます。作業管に平行に配置されている SiC 加熱ロッドが優れた温度均一性を確保します。 標準タイプ 作業温度1500、高温の作業では摩擦が増加 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ...
Nabertherm