加熱管状炉 R 50/250/12
実験用セラミック製ステンレススチール製

加熱管状炉
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加熱管状炉
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特徴

機能
加熱
応用
実験用
使用素材
セラミック製
チャンバー素材
ステンレススチール製
形態
コンパクト
温度域

1,200 °C, 1,300 °C
(2,192 °F, 2,372 °F)

詳細

このコンパクトな管状炉には切替システムと制御システムが内蔵されています。汎用性があるので、多くのプロセスで使用できます。C 530 製の作業管と 2 個のファイバープラグが標準装備されています。優れた費用対効果の管状炉です。 標準タイプ 1ゾーンタイプ 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ケーシング EC 規則 No 1272/2008(CLP)に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用 管外径50 mm~170 mm、加熱長250 mm~1000 mm セラミック製作業管 C 530、空気中での運転用のファイバーコルク 2 個付き 半導体リレーによる低騒音の加熱動作 ヒーターエレメントは支持パイプに熱を放出します 操作説明書の枠内における規定どおりの使用 ナーバサーム・コントローラー用NTLog Basic、プロセスデータをUSBスティックに記 録 コントローラ B510(それぞれ 4 つのセグメントのある 5 つのプログラム) 付属装置 停止温度を調節できる温度リミッターで炉とチャージを過熱から保護 作業管内の温度計測による装入制御 3 ゾーン設計(加熱長さ 500 mm 以上)で温度均一性を最適化 ガスパージパッケージ 1、15、2 および 4 監視、文書化、制御用の VCD ソフトウェアパッケージのプロセス制御 および文書化

カタログ

Laboratory
Laboratory
64 ページ
*価格には税、配送費、関税また設置・作動のオプションに関する全ての追加費用は含まれておりません。表示価格は、国、原材料のレート、為替相場により変動することがあります。