研究所用真空ポンプ MD 4C EX VARIO +AK+EK

膜

セパレーターAKとエミッションコンデンサーEKを備えたATEX化学ダイアフラムポンプをフル活用 VARIO®: ヒステリシスのないVARIO®真空制御による短いプロセス時間 VARIO®:VARIO® ポンプは必要な時に必要なだけ作動します - 最小限の電力消費、長いメンテナンス間隔、静かな運転 VARIO®:真空コントローラーVACUU-SELECT（オプション）により、正確な真空制御と全自動プロセスが可能です。 ATEX真空センサーとコネクションボックス100により、簡単に設置できます。 新しいATEX VARIO®ケミストリーダイアフラムポンプと真空システムにより、真空はモーター速度により正確に制御されます。VARIO®ポンプは、追加の制御信号線によって駆動されます。オプションのATEX真空センサー付き真空コントローラーVACUU-SELECTとコネクションボックス100は、パラメーター設定やユーザープログラミングを必要としない完全自動蒸発を可能にします。適応制御により、沸騰圧力を独自に検出し、蒸気圧に応じて連続的かつ最適に真空度を調整します。真空コントローラーとコネクションボックス100は、非危険区域に設置されます。