消耗型オーブン L(T) 3/11

加熱研究所用真空

マッフル炉 L 3/11 ～ LT 60/12 は、長年に渡ってラボラトリーで毎日使用されています。このモデルシリーズは、素晴らしい処理能力、最新の優れた設計、そして、高い信頼性を提供します。これらのマッフル炉は、追加料金なしで、フラップドアまたはリフトドアからお選びいただけます。 標準タイプ セラミック熱板による二面加熱方式（マッフル炉L 24/11～LT 60/12では三面加熱）し、最適な温度均一性を達成します 動作温度が 800 °C を超える場合は、有効空間に DIN 17052-1 に基づく閉じた給気仕切弁を取り付け、+/- 5 K の温度均一性を実現します 加熱線が内蔵されたセラミック製加熱プレート、保護されており、容易に交換できます EC 規則 No 1272/2008（CLP）に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ケーシング 置き台として利用可能な前開き扉（L）、または値段の追加なしの上下スライド扉（LT）の選択可能、後者では高熱部はユーザー操作の扉裏側に位置 扉にある調節可能のスリット（写真参照）装備 炉背面の排気孔 コントローラ B510（それぞれ 4 つのセグメントのある 5 つのプログラム）または L 1/12 用の R7 半導体リレーによる低騒音の加熱動作 操作説明書の枠内における規定どおりの使用 ナーバサーム・コントローラー用NTLog Basic、プロセスデータをUSBスティックに記録 付属装置 喚起扇または職場意識排気ガス浄化装置付き排気ダクト。 停止温度を調節できる温度リミッターで炉とチャージを過熱から保護 不燃性保護ガスまたは反応ガスによる炉洗浄のための保護ガス接続（煙突、ファンまたは触媒のある煙突との組み合わせはできません）、非気密型 手動式、または自動式ガス化システム 熱電対のダクトは背面または炉扉にあります 監視、文書化、制御用の VCD ソフトウェアパッケージのプロセス制御 および文書化 異なるレベルにある炉の装入用の閉じたプレートまたは穴のあるプレートの装入フレーム、プレートの取付け/取外し用のホルダー付き、最高温度 800°C、 L(T) 9/11 の場合のレベル当たりの最大積載重量 2kg、L(T) 15/11 の場合のレベル当たりの最大積載重量 3kg