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... SEMおよびSTEM/TEMユーザーは、この問題をよくご存知です。高分解能の画像は、観察領域に炭素膜が急速に堆積することによって、しばしば損なわれます（完全に不可能ではないにしても）。これは通常、電子ビームのエネルギー移動により観察中に連続的に堆積するガス状炭化水素が原因です。このような炭化水素の発生源は、チャンバーの真空度が最適でないことであり、通常、高エネルギー入力のプラズマクリーナーや、日立のエキシマ光源 "Sparkle "でより穏やかに改善することができる。 しかし、ほとんどの場合、観察対象物やサンプルホルダーそのものが汚染の主な原因である。このような場合、プラズマ処理では試料を変質させたり、破壊したりする可能性があります。日立のSEM/TEM用クリーナーZONEは、紫外線と遊離酸素ラジカルを利用することで、プラズマクリーナーよりも大幅に少ないエネルギーで、干渉性炭化水素を迅速かつ徹底的に除去します。 ZONE製品シリーズのサンプルクリーナーは、波長185nmと254nmのUVランプを搭載しており、典型的な炭化水素結合を攻撃し、酸素分子を分解し、オゾンの形で反応性成分を生成します。 内蔵のダイヤフラムポンプは、13～67kPaの間で調節可能な適度な真空を発生する。チャンバー圧力は、サンプルの種類に応じて、より酸化的またはより物理的な洗浄メカニズムを最適化するために使用することができます。 製品の特徴 - ...
Hitachi High-Tech Europe GmbH
試料の前処理や保管を行う際、試料表面に付着したハイドロカーボンを観察前にUV照射により除去し、観察時のコンタミネーション形成を低減するクリーナーです。少ないダメージで試料表面の汚損を除去することが可能なため、ダメージに敏感な試料へも適応可能です。 波長185 nmと254 nmのUV照射光によりチャンバー内残存酸素分子からオゾンおよび活性酸素（原子状酸素）を生成します。試料表面のハイドロカーボン分子と活性酸素が反応し、CO2、H2Oなどの揮発性分子となり、試料表面から剥離します。発生したオゾンと剥離した揮発性分子はオゾン除外装置を含むドライ真空排気系により、安全にチャンバー外に排出されます。 価格：お問い合わせください 製造元：株式会社三友製作所 取扱会社：株式会社日立ハイテクフィールディング 特長 コンタミネーション低減により本来の試料表面が観察可能 電子顕微鏡用の試料作成・保管中に、試料表面にハイドロカーボンが付着し、電子ビーム照射時にコンタミネーションが形成され、高分解能観察や分析の妨げになります。 ZONESEMⅡは、UV光を照射して試料表面に付着したハイドロカーボンを除去、電子顕微鏡での観察時に試料表面に形成されるコンタミネーションを低減することができます。 高スループットでフレキシブルなセットアップが可能 同時に複数サンプルを処理可能 LCDタッチパネルによる操作 簡便なサンプル装着 ...
Hitachi High-Tech Europe GmbH
... IM4000 IIは、コンピュータ制御のモジュール式アルゴンイオン琢磨システムで、希望する機能に応じて、純表面琢磨機、断面琢磨機、またはハイブリッドシステムとして装備することができます。0.1keVから6.0keVまで100eVステップで選択可能なビームエネルギーにより、微細な研磨から大きな断面研磨まで、幅広い用途に対応できます。断面加工では、IM4000 IIはSiで最大500µm/時間の除去レートを達成（6keV、マスクエッジ上への突出量100µm、ステージ揺動±30°）。オートスタート／時間プリセレクト、インターバル研磨、2ステージプロセスなどの機能が利用可能です。IM4000 ...
Hitachi High-Tech Europe GmbH
... ArBlade 5000 / IM5000 は、IM4000 II シリーズの断面加工機能を拡張し、実際の要件に応じて断面幅を最大 10 mm まで拡張することができます。この目的のために、サンプルは、最適なフォーカスを維持したまま、事前に登録された加工領域でクロスカット中に定期的に横方向に移動します。オプションのマルチサンプルホルダーを使用すれば、最大3個のサンプルを自動処理できます。 ArBlade 5000 / IM5000 は、より強力なイオンガンを搭載し、毎時 ...
Hitachi High-Tech Europe GmbH
... 自動EMステナー 超微細切術の後、ほとんどのセクションは鉛塩およびウラニル塩との対比が必要です。 正しく処理されないと危険であるだけでなく、対照的なプロセス中に沈殿物を引き起こす可能性があります。 安全で健康的な環境を提供するために、RMC BoeckelerはQG-3100を開発しました。このQG-3100は、1回の実行で最大40個のグリッドを対比することができます。 使いやすく、プログラマブルでコスト効率に優れています。 QG-3100自動ステナーは、汚染を最小限に抑え、時間を節約し、廃棄物を削減することで、染色品質と収率の両方を向上させます。 ...
Boeckeler Instruments, Inc.
Boeckeler Instruments, Inc.
ライカ EM KMR3は、バランス割断法により6.4mm, 8mmおよび10mm厚の棒ガラスから、完璧なガラスナイフを確実に作製します。 ライカ EM KMR3は使いやすく、割断後にスコアリング機構は自動的にスタートポジションに戻るため、操作ミスが避けられます。 再現性が高く、比類のないナイフ品質 割断サイクル中、割断ヘッドによって棒ガラスの両側に正確に同じ力を加えます。 容易なハンドリング 独自のドロワー機構により、特別なツールを使用しなくてもガラスナイフを安全かつ容易に取り出せます。 簡単な操作 割断およびスコアリング機構の自動リセットにより、誤操作の発生を最小限にします。
EM TIC 3X のアップデートバージョンは、私たちのモットー「with the user for the user (ユーザーとともにユーザーのために)」に基づき、加工効率と柔軟性を実用的な方法で統合しました。 最新の EM TIC 3X の 2 倍になった加工速度は、5種類の試料ステージとの組み合わせにより、試料作製のニーズに効率よく柔軟に対応します。 再現性の高い結果 トリプルイオンミリング装置ライカ EM TIC 3X は、走査型電子顕微鏡 ...
... CROSS SECTION POLISHER™ (CP)は、電子顕微鏡用の試料断面を作成する装置です。 イオンビームで断面を作製するため、研磨のように経験を必要とする方法に比べ、個人差がなく短時間で良質な断面を得ることができます。 IB-19540CP/IB-19550CCPでは、新しいGUIとIoT（Internet of Things）を搭載し、ミリング工程の操作・モニタリングがより使いやすくなりました。高スループットイオンソースと高スループット冷却システムにより、迅速かつスムーズな断面加工が可能です。 特徴 新GUIとIoT(Internet ...
Jeol
IB-19530CP クロスセクションポリッシャ™は、多様化する市場ニーズに応えるべく、マルチパーパスステージを採用し、各種機能ホルダーを交換することで多機能化を実現しました。 用途に応じた機能ホルダーを選択することにより、断面ミリングだけではなく、平面ミリング、イオンビームスパッタコーティングなどの機能が拡張できます。 特長 自動加工プログラム 高速加工と仕上げ加工をプログラムすることができます。高品質な断面を短時間で作製できます。また、間欠加工プログラムにより、加工温度を抑えた加工ができます。 自動加工開始モード 設定圧力値に到達後、自動で加工を開始可能です。 間欠加工モード イオンビーム照射と停止を一定間隔で繰り返し、試料の温度上昇を抑えることができます。 仕上げ加工モード 高加速電圧の加工後、低加速電圧の加工に自動で切り替えて、短時間で高品質な断面作製が可能です。 特に結晶構造解析のための試料作製に有効です。 マルチパーパスステージ 各種機能ホルダーを選択することにより、断面ミリングだけではなく、平面ミリング、回転断面ミリング、イオンビームスパッタコーティング機能の拡張が可能です。
Jeol
加工時に試料を液体窒素冷却する事によりイオンビームによる熱ダメージを軽減させる事が出来ます。 冷却保持時間も長く、液体窒素の消費量を抑えた構造になっています。 液体窒素を入れたまま、短時間で試料の冷却、室温戻し、取り外しが可能です。 大気非曝露環境下で、加工から観察までを行う為の搬送機構が付いています 長 自動加工プログラム 高速加工と仕上げ加工をプログラムすることができます。高品質な断面を短時間で作製できます。また、間欠加工プログラムにより、加工温度を抑えた加工ができます。 自動加工開始モード／自動冷却加工開始モード 設定圧力値、冷却温度に到達後、自動で加工を開始可能です。また冷却加工終了後は自動で室温まで復帰可能です。 間欠加工モード イオンビーム照射と停止を一定間隔で繰り返し、試料の温度上昇を抑えることができます。 冷却機能と合わせて使用することも可能です。 仕上げ加工モード 高加速電圧の加工後、低加速電圧の加工に自動で切り替えて、短時間で高品質な断面作製が可能です。 特に結晶構造解析のための試料作製に有効です。 マルチパーパスステージ 各種機能ホルダーを選択することにより、断面ミリングだけではなく、平面ミリング、回転断面ミリング、イオンビームスパッタコーティング機能の拡張が可能です。
Jeol
試料の前処理や保管を行う際、試料表面に付着したハイドロカーボンを観察前にUV照射により除去し、観察時のコンタミネーション形成を低減するクリーナーです。少ないダメージで試料表面の汚損を除去することが可能なため、ダメージに敏感な試料へも適応可能です。 波長185 nmと254 nmのUV照射光によりチャンバー内残存酸素分子からオゾンおよび活性酸素（原子状酸素）を生成します。試料表面のハイドロカーボン分子と活性酸素が反応し、CO2、H2Oなどの揮発性分子となり、試料表面から剥離します。発生したオゾンと剥離した揮発性分子はオゾン除外装置を含むドライ真空排気系により、安全にチャンバー外に排出されます。 価格：お問い合わせください 製造元：株式会社三友製作所 取扱会社：株式会社日立ハイテクフィールディング コンタミネーション低減により本来の試料表面が観察可能 電子顕微鏡用の試料作成・保管中に、試料表面にハイドロカーボンが付着し、電子ビーム照射時にコンタミネーションが形成され、高分解能観察や分析の妨げになります。 ZONESEMⅡは、UV光を照射して試料表面に付着したハイドロカーボンを除去、電子顕微鏡での観察時に試料表面に形成されるコンタミネーションを低減することができます。 高スループットでフレキシブルなセットアップが可能 同時に複数サンプルを処理可能 LCDタッチパネルによる操作 簡便なサンプル装着 ...
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