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温度域: 1,600, 1,700, 1,800 °C
... 概要
高温管状炉は水平式（RHTH型）または直立式（RHTV型）で選択可能。高品質の真空形成セラミックファイバーボードを断熱材に使用しており、蓄熱性が低く熱伝導率も低いため省エネルギー運転が可能。様々なガスパージパッケージの装備により、不燃性または可燃性の保護ガス、反応ガス、あるいは真空での運転が可能です。
標準タイプ
- 最高温度：1600 °C、1700 °C、または1800 °C
- 1ゾーンタイプの構成
- 二重壁構造のステンレス鋼製ケーシング（炉後壁に空気吸入口）により外部温度は低く、安定性向上
- CLP規則（EC
温度域: 0 °C - 1,200 °C
... 製品概要
FMT-04 は、最大 1200°C（使用温度 ≤1100°C）までの精密熱処理向けに設計された真空管状炉です。∮80 mm 石英管、350 mm の加熱ゾーン、総管長 1000 mm を備えます。抵抗線加熱と PID 自動制御、30 セグメントのプログラム可能プロファイルにより ±1°C の温度精度と ±5°C の温度均一性を実現します。酸化防止の真空構造とアルミナ繊維セラミック断熱により、無汚染処理と熱効率を確保します。
主なハイライト
- 精密制御：30
Labotemp Systems
温度域: 1,400 °C
... 製品概要
Labotemp FMT-10 は、最大1400°C（使用温度 ≤1300°C）までの高温熱処理用研究室向け管式炉です。外径 ∮80 mm のコランダム（アルミナ）管、350 mm の単一加熱ゾーン、炉管全長1000 mm を備え、SiC 加熱棒と PID 制御、30セグメント時温プログラムにより精密で再現性の高い温度プロファイルを実現します（精度 ±1°C、均一性 ±5°C）。
用途
- 高温材料の合成・焼結
- アニールおよび結晶成長
- 粉末冶金・セラミックスの処理
- 半導体の拡散やコーティング開発
- 雰囲気制御下での研究用熱処理実験
主な利点
- 最大1400°Cまで動作可能
- PID自動制御による正確な温度プロファイル（±1°C）
- SiC
Labotemp Systems
温度域: 1,200, 1,150 °C
... 管状炉EZL-TF101は、高品質の発熱体と斬新な断熱設計により、ケース温度を下げ、消費電力を抑えながら、クラス最高の性能を発揮します。単一ゾーンの管状炉は、1200℃の温度範囲で動作し、様々なアプリケーションに対応する高い柔軟性を備えています。 仕様 管サイズ - 50 × 1000 mm 最高温度 - 1200°C 使用温度 - ≤1150°C 温度精度 - ±1°C 加熱速度 - ≤20°C/min 加熱ゾーン - シングル 加熱ゾーンの長さ - 440 mm コンスタントゾーン ...