真空管状炉

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焼きなまし管状炉
焼きなまし管状炉
FMT-17

温度域: 1,700 °C

... 製品概要
Labotemp FMT-17 は、1700°C(動作 ≤1550°C)までのラボおよび小規模生産向け高温処理用に設計された精密な水平管式炉です。∮40 mm のコランダム管を内蔵し、440 mm の単独加熱ゾーン(炉管全長 1200 mm)、MoSi₂ 加熱棒、B 型熱電対、PID 自動制御を備え、コンパクトな 794×590×800 mm の設置面積で迅速な昇温と安定した温度制御を実現します。

特長

  • 耐火アルミナ断熱およびアルミナセラミックファイバー製チャンバーによる熱効率
  • 定格最高温度
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Labotemp Systems
焼きなまし管状炉
焼きなまし管状炉
FMT-16

温度域: 1,700 °C

... 概要
Labotemp の高温コランダム製チューブ炉 FMT-16 は、1700°C(動作温度 ≤1550°C)まで対応する実験室用水平チューブ炉です。φ80 mm のコランダムチューブ、350 mm の加熱ゾーン、全長1200 mm の炉管を80×350 mm のチャンバーに収めています。MoSi₂ 加熱棒、B 型熱電対、PID 制御および30セグメントの時刻–温度プログラムにより、0–20°C/min の昇温で ±1°C の精度、±5°C の温度均一性を実現します。制御雰囲気および真空仕様に対応可能で、タッチスクリーン、PC ...

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Labotemp Systems
焼きなまし管状炉
焼きなまし管状炉
FMT-15

温度域: 1,700 °C

... 製品概要
Labotemp FMT-15 は、産業用研究および高度材料処理向けに設計された高温水平型管状炉です。定格最高温度1700°C(運転温度 ≤1550°C)で、∅40 mm のコランダム管、加熱有効長350 mm、管全長1200 mmを備えます。MoSi₂加熱体、B型熱電対、30セグメントプログラミング対応のPID制御により、温度精度±1°C、均一性±5°Cを実現します。酸化アルミナ系セラミックファイバー断熱と加熱速度0–20°C/minにより、安定した再現性のある熱サイクルが可能です。

主な利点

  • 産業対応の耐久性:コランダム管とMoSi₂素子による長時間高温運転対応。
  • 高精度なプロセス制御:PID制御、B型熱電対、30セグメントのプログラムで再現性を確保。
  • 用途に応じた柔軟性:水平管設計は制御雰囲気および真空プロセスに適合。

特長
  • タッチセーフ設計(外装)
  • 最大温度
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Labotemp Systems
焼きなまし管状炉
焼きなまし管状炉
FMT-13

温度域: 1,700 °C

... 製品概要
Labotemp 高温管状炉 FMT-13 は、最大1700°C(使用温度 ≤1550°C)までの過酷な熱処理向けに設計された精密実験用管状炉です。∮40 mm のコランダム管、205 mm の単一水平加熱ゾーン、合計チューブ長800 mm を備えます。MoSi₂ 加熱棒、PID 制御、30 段の温度プログラムにより ±1°C の温度精度と ±5°C の均一性を実現します。S/B 型熱電対の選択とアルミナセラミックファイバーチャンバーにより、630×590×767 mm ...

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Labotemp Systems
焼きなまし管状炉
焼きなまし管状炉
FMT-11

温度域: 1,400 °C

... 製品概要
Labotemp FMT-11 は、最高1400°C(推奨動作温度 ≤1300°C)まで対応する高温コランダム(アルミナ)製チューブ炉です。∮40 mm のコランダムチューブ、440 mm の単一加熱ゾーン、総チューブ長1200 mm を備えます。S 型熱電対、SiC 加熱体、アルミナ製セラミックファイバー断熱により、コンパクトな 794×590×800 mm の設置スペースで安定した再現性の高い運転を実現します。

推奨用途

  • 高温材料合成
  • 焼結およびアニール
  • 結晶成長
  • 粉末冶金
  • セラミック加工
  • 半導体の拡散・コーティング開発
  • 研究室での熱処理実験

主なポイント
  • 最大到達温度
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Labotemp Systems
焼きなまし管状炉
焼きなまし管状炉
FMT-10

温度域: 1,400 °C

... 製品概要
Labotemp FMT-10 は、最大1400°C(使用推奨温度 ≤1300°C)までの高温熱処理用の研究室向け管式炉です。外径 ∮80 mm のコランダム(アルミナ)管、350 mm の単一加熱ゾーン、総管長1000 mm を備えています。SiC 加熱棒と PID 制御、30セグメントの時刻‑温度プログラムにより、精密で再現性の高い温度プロファイルを実現します。

用途

  • 高温材料の合成・焼結
  • アニール(焼なまし)および結晶成長
  • 粉末冶金・セラミックスの処理
  • 半導体の拡散やコーティング開発
  • 雰囲気制御下での研究用熱処理実験

主な利点
  • 最大1400°Cの高温運転に対応
  • PID自動制御により正確な温度プロファイル(精度
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Labotemp Systems
焼きなまし管状炉
焼きなまし管状炉
FMT-06

温度域: 1,200 °C

... 製品概要
Labotemp クォーツ管式炉 FMT-06 は、最高1200°C(使用温度 ≤1100°C)までの均一な熱処理を目的とした高精度の研究室用管状炉です。高純度∮80 mmの石英管、440 mmの単一加熱ゾーン、総管長1000 mmを備えます。抵抗線加熱とPID制御、30分割のプログラム可能な温度-時間曲線により、温度精度±1°C、均一性±5°Cを実現します。アルミナセラミックファイバー製のチャンバーは熱効率を向上させます。水平設置のチューブ形状は試料の出入りを容易にし、オプションで制御雰囲気または真空構成に対応します。

主な特長

  • 30セグメントのプログラム可能な温度–時間曲線を備えたPIDコントローラー
  • 最高温度:1200°C(使用温度
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Labotemp Systems
焼きなまし管状炉
焼きなまし管状炉
FMT-04

温度域: 1,200 °C

... 製品概要
Labotemp 真空管状炉 FMT-04 は、最大 1200°C(使用温度 ≤1100°C)までの精密熱処理に対応するコンパクトで高効率な真空管状炉です。∮80 mm の石英管、350 mm の加熱ゾーン、総管長 1000 mm、および 80×350 mm のチャンバーを備えています。抵抗線加熱と PID 自動制御、30 セグメントのプログラム可能プロファイルにより ±1°C の精度と ±5°C の温度均一性を実現します。酸化防止設計とアルミナ繊維セラミック断熱により熱効率が確保されています。

用途

  • 材料合成
  • アニーリング
  • 焼結
  • 半導体プロセス
  • 粉末冶金
  • ナノ材料の調製
  • 研究および産業用途における熱安定性試験

主な特長
  • 汚染のない処理を実現する酸化防止の真空管構造
  • 最大温度
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Labotemp Systems
焼きなまし管状炉
焼きなまし管状炉
FMT-03

温度域: 1,200 °C

... 製品概要
Labotemp 真空管式炉 FMT-03 は、1200°C までの均一な熱処理を目的に設計された研究用真空管式炉です(運転温度 ≤1100°C)。φ40 mm 高純度石英管、加熱ゾーン350 mm、チューブ全長1000 mm を備えます。抵抗線加熱素子と PID 制御、30 セグメントのプログラム可能な温度プロファイルにより、±1°C の制御精度と ±5°C の温度均一性で再現性のあるサイクルを実現します。オプション装備により雰囲気制御処理に対応し、研究用途および小規模生産での使用を想定しています。

主な利点

  • プログラム可能な温度プロファイルを持つ精密な
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Labotemp Systems
加熱管状炉
加熱管状炉
RSH 50/250/..

温度域: 1,100, 1,300 °C

... この管状炉は水平(RSH)または垂直(RSV)で使用できます。 開口式の構造のため作業管の交換が簡単です。各種の作業管(例えば素材が異なる作業管など)が楽に交換できます。 多様なアクセサリーを使用すれば、弊社のプロフェッショナル管状炉をプロセスに合わせて理想的に調整できます。さまざまなタイプのガスパージパッケージを取り付けて拡充して、保護ガス雰囲気、ガスを使用する場合、または、真空で作業できます。プロセスの制御には、快適な標準コントローラに加えて、最先端の PLC 制御システムも使用できます。 標準タイプ 1ゾーンタイプ 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ...

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Nabertherm
熱処理管状炉
熱処理管状炉
RSRC series

温度域: 1,100, 1,300 °C

... RSRC シリーズの回転管状炉は、連続して運搬されるチャージ材料を短時間で加熱するプロセスに特に適しています。これらの回転管状炉は、大変フレキシブルなので、さまざまな目的に使用できます。回転管状炉は簡単に傾けて、目的温度にすることができます。材料は上の管端に連続して供給されます。管の加熱された領域を通って、下の管端から落ちます。熱処理の時間は、傾斜角度、回転速度、作業管の長さ、および、チャージ材料の流動特性によって異なります。オプションの閉式ガスパージシステムを取り付ければ、回転管状炉を、定義された雰囲気下、または、真空でのプロセスに使用できます。プロセス、チャージ、および、必要な最高温度に応じて、さまざまな材料製の作業管を使用できます。 標準タイプ 石英ガラス製の両面開放型作業管 N ...

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Nabertherm
加熱管状炉
加熱管状炉
RHTH 50/150/..

温度域: 1,600, 1,700, 1,800 °C

... 高温管状炉は水平式(RHTH型)または直立式(RHTV型)で選択していただけます。高品質真空形成ファイバーボードからなる断熱材は貯熱性と熱伝導性が低いため、省エネルギーの動作を可能にします。様々なガスパージセットの装備で、不燃性または可燃性の保護ガス反応ガスおよび真空で運転できます。 標準タイプ 1ゾーンタイプ 外気温を低温に保つためさらに冷却するステンレス圧延板からなる二重壁構造の ケーシング EC 規則 No 1272/2008(CLP)に基づいてヒトに対する発がん性がないと分類されている断熱材だけを使用 真空形成のセラミックファイバーボード製の断熱体 垂直での使用のためのスタンド付き管状炉 ...

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