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マルチガス管状炉
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
{{product.productLabel}} {{product.model}}
{{#if product.featureValues}}{{product.productPrice.formattedPrice}} {{#if product.productPrice.priceType === "PRICE_RANGE" }} - {{product.productPrice.formattedPriceMax}} {{/if}}
{{#each product.specData:i}}
{{name}}: {{value}}
{{#i!=(product.specData.length-1)}}
{{/end}}
{{/each}}
{{{product.idpText}}}
温度域: 1,100 °C
... 概要
管状炉 RD 30/200/11 は、最高温度 1100 °C までの実験室用途および軽工業用途向けに設計されたコンパクトな水平型ユニットです。作業管が加熱線の支持体としても機能するため、非常に速い加熱速度と小さな外形寸法を実現します。
標準装備
- 最高温度(Tmax):1100 °C
- 作業管:セラミック C 530(空気中運転用ファイバープラグ2個付)
- 管内径:30 mm、加熱長さ:200
Nabertherm
温度域: 1,200, 1,300 °C
... 概要
C 530 製作業管と 2 個のファイバープラグを備えた R シリーズのコンパクト管状炉は、研究室用途および小規模生産の熱処理向けに設計されています。電源・制御が一体化されており、定義された雰囲気や再現性のある昇温サイクルが必要なプロセスに適します。
主な特長
- 最高温度: 1200 °C または 1300 °C
- 管外径: 50 mm、120 mm、170 mm
- 加熱長: 250 mm、500
Nabertherm
温度域: 1,100, 1,300 °C
... 製品概要 RSシリーズのトランク型(開閉式)管状炉は水平運転を基本とし、オプションの架台で垂直運転に対応可能です。開口構造により作業管の交換が迅速かつ安全に行え、異なる材質・径の管を使用できます。最高温度は1300 °Cまで、加熱長は250 mm〜1000 mmの構成が用意されています。各種の供気/真空パッケージにより保護ガス雰囲気、プロセスガス、真空での処理が可能です。標準コントローラまたはPLCによる自動制御とデータ記録に対応します。
標準装備
- 最高温度:1100
Nabertherm
温度域: 1,100 °C
... 概要
RSRBシリーズの回転式管状炉は、バッチ(間欠)処理向けに設計されています。石英製作業管の回転によりチャージが移動し、先細の管端が長時間の処理中に材料を保持します。温度プロファイルによる制御加熱が可能です。
標準装備
- 最高温度 最大1100 °C
- 標準は単一加熱ゾーン
- 低い外面温度と機械的安定性を実現するステンレス製二重外装(通気構造)
- 断熱材はEC規則1272/2008(CLP)により分類されない材料を使用(ケイ酸アルミニウム繊維/RCFは不使用)
- 温度センサー:
Nabertherm
温度域: 1,100, 1,300 °C
... 概要
RSRCシリーズの回転管状炉は、管をわずかに傾け回転させることにより、連続搬送されるバルク材を短時間で加熱する用途向けに設計されています。材料は上端から供給され、加熱ゾーンを通過して下端で排出されます。滞留時間は傾斜角、回転速度、管長で設定します。オプションの閉式供給系により、定義雰囲気下や真空下での処理が可能です。作業管材質はプロセスと要求温度に応じて選択します。
標準装備
- 最高温度オプション:1100 °C(石英管、熱電対
Nabertherm
温度域: 1,600, 1,700, 1,800 °C
... 概要
高温管状炉は水平式(RHTH型)または直立式(RHTV型)で選択可能。高品質の真空形成セラミックファイバーボードを断熱材に使用しており、蓄熱性が低く熱伝導率も低いため省エネルギー運転が可能。様々なガスパージパッケージの装備により、不燃性または可燃性の保護ガス、反応ガス、あるいは真空での運転が可能です。
標準タイプ
- 最高温度:1600 °C、1700 °C、または1800 °C
- 1ゾーンタイプの構成
- 二重壁構造のステンレス鋼製ケーシング(炉後壁に空気吸入口)により外部温度は低く、安定性向上
- CLP規則(EC
Nabertherm
温度域: 1,700 °C
... 製品概要
Labotemp FMT-17 は、1700°C(動作 ≤1550°C)までのラボおよび小規模生産向け高温処理用に設計された精密な水平管式炉です。∮40 mm のコランダム管を内蔵し、440 mm の単独加熱ゾーン(炉管全長 1200 mm)、MoSi₂ 加熱棒、B 型熱電対、PID 自動制御を備え、コンパクトな 794×590×800 mm の設置面積で迅速な昇温と安定した温度制御を実現します。
特長
- 耐火アルミナ断熱およびアルミナセラミックファイバー製チャンバーによる熱効率
- 定格最高温度
Labotemp Systems
温度域: 1,700 °C
... 概要
Labotemp の高温コランダム製チューブ炉 FMT-16 は、1700°C(動作温度 ≤1550°C)まで対応する実験室用水平チューブ炉です。φ80 mm のコランダムチューブ、350 mm の加熱ゾーン、全長1200 mm の炉管を80×350 mm のチャンバーに収めています。MoSi₂ 加熱棒、B 型熱電対、PID 制御および30セグメントの時刻–温度プログラムにより、0–20°C/min の昇温で ±1°C の精度、±5°C の温度均一性を実現します。制御雰囲気および真空仕様に対応可能で、タッチスクリーン、PC ...
Labotemp Systems
温度域: 1,700 °C
... 製品概要
Labotemp FMT-15 は、産業用研究および高度材料処理向けに設計された高温水平型管状炉です。定格最高温度1700°C(運転温度 ≤1550°C)で、∅40 mm のコランダム管、加熱有効長350 mm、管全長1200 mmを備えます。MoSi₂加熱体、B型熱電対、30セグメントプログラミング対応のPID制御により、温度精度±1°C、均一性±5°Cを実現します。酸化アルミナ系セラミックファイバー断熱と加熱速度0–20°C/minにより、安定した再現性のある熱サイクルが可能です。
主な利点
- 産業対応の耐久性:コランダム管とMoSi₂素子による長時間高温運転対応。
- 高精度なプロセス制御:PID制御、B型熱電対、30セグメントのプログラムで再現性を確保。
- 用途に応じた柔軟性:水平管設計は制御雰囲気および真空プロセスに適合。
特長
- タッチセーフ設計(外装)
- 最大温度
Labotemp Systems
温度域: 1,700 °C
... 製品概要
Labotemp 高温管状炉 FMT-13 は、最大1700°C(使用温度 ≤1550°C)までの過酷な熱処理向けに設計された精密実験用管状炉です。∮40 mm のコランダム管、205 mm の単一水平加熱ゾーン、合計チューブ長800 mm を備えます。MoSi₂ 加熱棒、PID 制御、30 段の温度プログラムにより ±1°C の温度精度と ±5°C の均一性を実現します。S/B 型熱電対の選択とアルミナセラミックファイバーチャンバーにより、630×590×767 mm ...
Labotemp Systems
温度域: 1,400 °C
... 製品概要
Labotemp FMT-11 は、最高1400°C(推奨動作温度 ≤1300°C)まで対応する高温コランダム(アルミナ)製チューブ炉です。∮40 mm のコランダムチューブ、440 mm の単一加熱ゾーン、総チューブ長1200 mm を備えます。S 型熱電対、SiC 加熱体、アルミナ製セラミックファイバー断熱により、コンパクトな 794×590×800 mm の設置スペースで安定した再現性の高い運転を実現します。
推奨用途
- 高温材料合成
- 焼結およびアニール
- 結晶成長
- 粉末冶金
- セラミック加工
- 半導体の拡散・コーティング開発
- 研究室での熱処理実験
主なポイント
- 最大到達温度
Labotemp Systems
温度域: 1,400 °C
... 製品概要
Labotemp FMT-10 は、最大1400°C(使用推奨温度 ≤1300°C)までの高温熱処理用の研究室向け管式炉です。外径 ∮80 mm のコランダム(アルミナ)管、350 mm の単一加熱ゾーン、総管長1000 mm を備えています。SiC 加熱棒と PID 制御、30セグメントの時刻‑温度プログラムにより、精密で再現性の高い温度プロファイルを実現します。
用途
- 高温材料の合成・焼結
- アニール(焼なまし)および結晶成長
- 粉末冶金・セラミックスの処理
- 半導体の拡散やコーティング開発
- 雰囲気制御下での研究用熱処理実験
主な利点
- 最大1400°Cの高温運転に対応
- PID自動制御により正確な温度プロファイル(精度
Labotemp Systems