真空オーブン FVA-01

ろう付け焼きなまし分析

概要
Labotemp 真空炉 FVA-01 は、最大 1200°C の管理された熱処理用に設計されたコンパクトな研究室用真空炉です。真空ろう付け、アニーリング、焼結、材料評価などの用途向けで、研究および小ロット生産環境に適しています。高温用多結晶アルミナセラミックファイバー炉室と HRE 抵抗線式加熱体を備え、均一な加熱と熱安定性を実現します。温度制御は Shimaden (Japan) の N 型コントローラで ±1°C の精度を提供します。

主な利点

• 最大1200°C の高温性能により要求の高い熱処理に対応
• Shimaden N 型コントローラによる高精度制御（±1°C）
• 真空、惰性ガス、低圧などの異なる雰囲気での運転が可能（ポンプインターフェース使用）

仕様

• Model NO.: FVA-01
• 容量 (L): 3
• 最高温度 (°C): 1200
• 動作温度 (°C): 1100
• 電圧: 220V 50Hz
• 電力 (kW): 2.5
• 炉室寸法 (mm): 150 × 150 × 150
• 加熱体: HRE 抵抗線
• 熱電対タイプ: N 型
• 温度コントローラ: Shimaden (Japan)
• 真空/ポンプシステム: ポンプシステムによる
• タイプ: スタンド型
• 炉室材質: 高温用多結晶アルミナセラミックファイバープレート
• 温度精度: ±1°C
• 加熱速度: ≤ 40°C/min
• 正味重量: 340 kg
• 総重量: 350 kg
• 梱包寸法: 1160 × 1020 × 1430 mm

特長

• Shimaden コントローラによる正確で信頼性の高い温度制御
• コンパクトなスタンド型円筒ボディと耐火性セラミックファイバー炉室による均一な温度分布
• HRE 抵抗線加熱体による安定した熱性能（最高1200°C）
• プロセスガスに応じたポンプシステムインターフェース
• 研究室向けの小規模ワークフローに適した高速加熱応答

用途

• 金属、セラミックス、ガラス、複合材料の真空ろう付け、アニーリング、焼結
• 材料研究部門、大学、産業向け R&D センター
• 粉末冶金試験、サンプル作製、小ロット生産

標準付属品

• 耐高温手袋 1 組
• 坩堝用トング 1 組
• 取扱説明書

オプション付属品

• ロータリーポンプ 2XZ-4
• デジタル真空計
• 水冷却装置 LX-300

仕様／技術データ

• Model NO.: FVA-01
• 容量 (L): 3
• 最高温度 (°C): 1200
• 動作温度 (°C): 1100
• 電圧: 220V 50Hz
• 電力 (kW): 2.5
• 炉室寸法 (mm): 150×150×150
• 加熱体: HRE 抵抗線
• 熱電対タイプ: N 型
• 温度コントローラ: Shimaden (Japan)
• 真空／ポンプシステム: ポンプシステムによる
• タイプ: スタンド型
• 炉室材質: 高温用多結晶アルミナセラミックファイバープレート
• 温度精度: ±1°C
• 加熱速度: ≤ 40°C/min
• 正味重量: 340 kg
• 総重量: 350 kg
• 梱包寸法: 1160×1020×1430 mm