製品概要Labotemp 真空炉 FVA-05 は、研究および産業環境での精密な熱処理向けに設計された研究室用真空炉です。300 × 500 × 200 mm のチャンバー(30 L)を備え、最大 1200 °C まで動作します。金属、セラミックス、複合材料の真空焼鈍、焼結、脱ガス、粉末冶金に適しています。Shimaden (Japan) の N-type コントローラにより、正確で再現性のある温度制御が可能です。酸化や汚染を抑えるために真空および不活性ガス運転をサポートします。電源は 380V、出力 7.5 kW。パイロットスケールおよび継続的な研究室運転を想定しています。
Labotemp FVA-05 を選ぶ理由- 最大 1200 °C の高温運転が可能。
- Shimaden N-type コントローラによる精密な温度制御で再現性の高い温度プロファイルを実現。
- 焼鈍、焼結、脱ガス、粉末冶金など多用途な処理に対応。
- 380V 電源で 7.5 kW の安定した研究室運転が可能。
- ISO および CE 準拠。輸送・据付サポートあり。
特長- デジタル真空計を装備。
- 複数サンプルや大型部品に対応する 30 L 大容量チャンバー。
- 均一な加熱と長寿命を実現する HRE 抵抗線ヒーター。
- Shimaden (Japan) の N-type 温度コントローラによる正確な制御と再現性。
- 真空および不活性ガス処理をポンプシステムでサポートし、酸化・汚染を低減。
用途- 金属、セラミックス、複合材料の焼結、焼鈍、脱ガスおよび熱処理。
- 材料研究室、製造の R&D 部門、大学、工業試験センターでの使用。
- 粉末冶金、セラミックス成形、電子部品や試作の生産など、雰囲気制御が必要な用途。
仕様- Model NO.: FVA-05
- 容量: 30 L
- 最高温度: 1200 °C
- 使用温度: 1100 °C
- チャンバー寸法: 300 × 500 × 200 mm
- 電源 / 電圧: 380V
- 定格出力: 7.5 kW
- 加熱素子: HRE 抵抗線
- 熱電対: N 型
- コントローラ: Shimaden (Japan)
- 真空 / ポンプシステム: ポンプシステムによる(真空および不活性ガス処理をサポート)
- 冷却要件: なし
- 正味重量: 370 kg
- 総重量: 428 kg