製品概要Labotemp FVA-08 真空炉は、研究および産業向けR&Dでの高精度な高温処理を想定した実験室用真空炉です。チャンバー容量は12 L(200×300×200 mm)、最高温度は1400°C(定格使用温度 1350°C)です。真空熱処理、真空焼ならし、真空ろう付け、焼結、制御雰囲気プロセス(セラミックス、金属、粉末冶金)に対応します。SiCロッド加熱素子により立ち上がりが速く温度分布が均一です。Shimaden (Japan) のS型コントローラとS型熱電対により精密で再現性のある温度制御が可能です。真空または不活性ガスでの運転が可能なポンプシステムを備え、水冷による安定性と安全性を提供します。
主な特長- 鋼製筐体
- 最高温度 1400°C(定格使用温度 1350°C)
- SiCロッド加熱素子により高速かつ均一な加熱
- Shimaden (Japan) S型コントローラ、S型熱電対
- チャンバー寸法 200×300×200 mm(12 L)
- ポンプシステムによる真空および不活性ガス処理対応
- 水冷による温度管理と安全対策
用途- セラミックス焼結
- 粉末冶金
- 電子部品製造
- 結晶育成
- 高温かつ低酸素環境が必要な熱処理
- 材料研究室、大学、産業R&D
- 先端材料開発および試作製造
仕様- 型番: FVA-08
- 容量 (L): 12
- 最高温度 (°C): 1400
- 使用温度 (°C): 1350
- チャンバー寸法 (mm): 200×300×200
- 電圧: 220V
- 消費電力 (kW): 5
- 加熱素子: SiCロッド
- 熱電対タイプ: S型
- コントローラ: Shimaden (Japan)
- 真空 / ポンプシステム: ポンプシステム
- 冷却: 有(ウォータークーリング)