製品概要Labotemp 真空炉 FVA-06 は、研究および材料系のラボ向けに設計された高温精密処理用の真空炉です。容量 3 L(150×150×150 mm)、最高温度 1400°C(使用温度 1350°C)で、真空焼入れ、焼結、ろう付け、雰囲気制御下での熱処理をセラミックス、金属、粉末冶金、電子部品に対して行えます。
主な利点- 最高 1400°C の高温処理に対応
- Shimaden 製 S 型コントローラと S 型熱電対による高精度温度制御
- SiC 棒状加熱素子により加熱応答が速く、温度分布が均一で耐久性が高い
- 外部ポンプによる真空または不活性ガス運転で酸化・汚染を低減
- 水冷保護による運用安全性および機器の長寿命化
特長- 高精度温度測定のための S 型熱電対
- 1400°C までの高温真空運転に対応し、良好な温度均一性を実現
- SiC 棒状加熱素子による高速加熱応答と高温サイクルでの耐久性
- Shimaden (Japan) の S 型温度コントローラにより、1350°C の使用温度まで安定した精密制御が可能
- 150×150×150 mm のコンパクトなチャンバーは少量試料やラボ試験に適合
- 外部ポンプによる真空または不活性雰囲気運転、及び安全性と耐久性向上のための水冷保護
用途- 工学用セラミックスの焼結・加工
- 結晶成長や先端材料の開発
- 粉末冶金および精密金属部品の焼結
- 電子部品の熱処理および雰囲気制御下でのラボ試験
- 研究機関、大学、材料科学ラボでの利用
仕様 / 技術データ- 型番:FVA-06
- 容量 (L):3
- チャンバー寸法 (mm):150×150×150
- 最高温度 (°C):1400
- 使用温度 (°C):1350
- 電圧:220 V
- 出力 (kW):2
- 加熱素子:SiC 棒
- 熱電対タイプ:S 型
- コントローラ:Shimaden (Japan)
- 真空 / ポンプシステム:外部ポンプ必要
- 冷却要件:水冷