ろう付けオーブン FVA-03

焼きなまし熱処理焼結

製品概要
Labotemp 真空炉 FVA-03 は容量12 Lの研究・産業向けラボ真空炉で、精密かつ再現性のある熱処理を実施できます。最高温度は1200°Cで、真空焼なまし、焼結、脱ガス、熱処理など、制御雰囲気と熱安定性が重要な用途に対応します。HRE抵抗線ヒーターは均一な加熱と長寿命を提供し、Shimaden (Japan) のN型コントローラーは±1°Cの精度でプロセスを再現可能に制御します。200×300×200 mmのチャンバーは材料研究、粉末冶金、セラミックス、電子部品試験向けの大型サンプルを収容できます。真空および不活性ガス対応により酸化や汚染を低減します。水冷安全機構と堅牢な構造により信頼性が向上します。

FVA-03を選ぶ理由

• 高温対応：最大1200°Cまで運転可能。
• 多用途処理：真空熱処理、焼なまし、焼結、ろう付け。
• 適合性：ISO基準準拠、CE認証取得。
• 高精度制御：Shimaden N型コントローラーによる±1°Cの制御精度。
• 耐久性のある加熱：HRE抵抗線ヒーターによる安定した加熱と長寿命。

主要仕様（表）
Model NO.: FVA-03
Volume (L): 12
Max Temp (°C): 1200
Working Temp (°C): 1100
Voltage: 220V
Power (kW): 4
Chamber Size (mm): 200×300×200
Heating Element: HRE Resistance Wire
Thermocouple Type: N Type
Controller: Shimaden (Japan)
Vacuum / Pump System: By Pump System
Cooling Requirement: No

特徴

• 水冷安全機構を装備。
• 最大1200°Cまで均一な熱処理が可能なラボ用真空炉。
• HRE抵抗線ヒーターを採用し、優れた熱安定性と長寿命を実現。
• Shimaden (Japan) N型温度コントローラーを搭載し、高精度で再現性の高い制御を提供。
• 200×300×200 mmチャンバーにより、小型モデルより大きなサンプル容量を確保。
• 外部ポンプシステムにより真空および不活性ガス雰囲気での運用をサポートし、酸化と汚染を最小化。

用途

• 金属・セラミックス材料の焼なまし、焼結、脱ガス、熱処理。
• 大学の研究室、材料試験センター、産業向け研究開発。
• 粉末冶金、電子部品製造、試作サンプルの開発。

技術仕様

• Model NO.: FVA-03
• Volume: 12 L
• Maximum temperature: 1200 °C
• Working temperature: 1100 °C
• Chamber internal size: 200 × 300 × 200 mm
• Heating element: HRE resistance wire
• Thermocouple: N type
• Controller: Shimaden (Japan)
• Voltage: 220 V
• Power consumption: 4 kW
• Vacuum/pump: External pump system (By Pump System)
• Cooling requirement: No (water-cooled safety provided)