真空オーブン FVA-03

ろう付け焼きなまし熱処理

概要
Labotemp 真空炉 FVA-03 は容量12 L のラボ用真空炉で、研究および産業環境における精密で再現性のある熱処理を想定して設計されています。最高温度は1200°Cで、真空焼なまし、焼結、脱ガスおよび各種熱処理に対応します。HRE 抵抗線加熱要素により均一な加熱分布と長寿命を実現し、Shimaden (Japan) の N 型コントローラーが ±1°C の精度で再現性の高いプロセス制御を提供します。200×300×200 mm のチャンバーは材料研究、粉末冶金、セラミックス、電子部品試験向けの大型サンプルを収容可能です。真空および不活性ガス対応により酸化と汚染を低減し、水冷安全機構と堅牢な構造が運用信頼性を高めます。

FVA-03を選ぶ理由

• 高温対応：最大1200°Cまで運転可能。
• 多用途処理：真空熱処理、焼なまし、焼結、ろう付け。
• 高精度制御：Shimaden N型コントローラーによる±1°Cの制御精度で再現性あるサイクル制御。
• 研究開発や小〜中規模の産業用途向けに設計。

特長

• 水冷方式の安全システムを装備。
• HRE 抵抗線ヒーターにより安定した温度分布と長寿命を実現。
• Shimaden (Japan) N型温度コントローラーによる高精度制御。
• 200×300×200 mm チャンバーによる大容量サンプル対応。
• 外部ポンプシステムを用いた真空／不活性ガス運転に対応し、酸化・汚染を最小化。
• 220 V、4 kW の電源仕様で一般的なラボ設備に適合。

用途

• 金属・セラミックスの焼なまし、焼結、脱ガス、熱処理。
• 材料研究、粉末冶金、セラミックス試験、電子部品のプロセス。
• 大学の研究室、材料試験センター、産業向けR&D。

仕様（表）
Model NO.: FVA-03
Volume (L): 12
Max Temp (°C): 1200
Working Temp (°C): 1100
Voltage: 220V
Power (kW): 4
Chamber Size (mm): 200×300×200
Heating Element: HRE Resistance Wire
Thermocouple Type: N Type
Controller: Shimaden (Japan)
Vacuum / Pump System: By Pump System
Cooling Requirement: No (水冷安全機構装備)

技術仕様

• Model NO.: FVA-03
• Volume: 12 L
• Maximum temperature: 1200 °C
• Working temperature: 1100 °C
• Chamber internal size: 200 × 300 × 200 mm
• Voltage: 220 V
• Power consumption: 4 kW
• Heating element: HRE resistance wire
• Thermocouple: N type
• Controller: Shimaden (Japan)
• Vacuum/pump: External pump system (By Pump System)
• Cooling requirement: No (water-cooled safety provided)