概要- アプリケーションベースのプロセス制御のためのグラフィカルUIを備えたVACUU·SELECT真空コントローラー
- プリセットアプリケーションとカスタムシーケンスを作成できるエディター
- 高沸点溶媒を含む実験室の真空作業向けに設計
- 電子制御による2つの独立した真空アプリケーションの同時運転に対応
製品概要この化学用真空ポンプユニットは、1台のポンプで2つの独立した真空プロセスを運転するためのコンパクトで即使用可能なソリューションを提供します。基礎ポンプは3段式のMD 4C NT膜式ポンプで、高沸点溶媒を扱う用途に適しています。各真空ポートには電子制御のソレノイドバルブと逆止弁が装備され、相互汚染を防ぎながら精密な真空制御を行います。統合されたVACUU·SELECTコントローラーは、プリセットプロセス、手動設定、アプリケーションエディターを備え、2つの真空シーケンスを独立して実行できます。吸入口のガラス製セパレーターは保護コーティングにより微粒子や液滴を捕集します。排気側の蒸気コンデンサーは冷水回路または循環式チラーと併用することでほぼ完全な溶媒回収を可能にします。製品は組み立て済みで使用準備が整った状態で納品されます。
技術データ最大排気速度 50 Hz: 3.4 m3/h
最大排気速度 60 Hz: 2.2 cfm
到達真空度: 1.5 mbar / 1.1 torr
ガスバラスト使用時到達真空度: 3 mbar / 2.2 torr
ヘッド数: 4
段数: 3
真空コントローラー: VACUU·SELECT
動作温度範囲: 10 °C ~ 40 °C
保管温度範囲: -10 °C ~ 60 °C
最大逆圧(絶対): 1.1 bar
吸入口接続: 2 x ホースノズル DN 8-10 mm
排気口接続: ホースノズル DN 8-10 mm
冷却水接続: 2 x ホースノズル DN 6-8 mm
定格出力: 0.25 kW
定格回転数(50/60 Hz): 1500 / 1800 min-1
保護等級(IEC 60529): IP 20
寸法(L x W x H): 435 x 243 x 457 mm
質量: 21.7 kg
騒音レベル(50 Hz時、音圧レベル): 45 dBA
ATEX 適合: II 3/- G Ex h IIC T3 Gc X(内部雰囲気のみ)
インターフェース: Ethernet (RJ45) Modbus TCP / USB Type A(データ転送、ソフトウェア更新) / RS-232(アダプタ必要)
付属品: 組み立て済みのポンプユニット(動作準備済)、取扱説明書
特徴 / 技術仕様- 独立したソレノイドバルブを備えた2つの真空ポートによる同時運転
- VACUU·SELECT による電子真空制御:プリセットアプリケーションとシーケンスエディター
- 保護コーティング付ガラス製吸入口セパレーターが粒子・液滴を捕集
- 冷却水または循環チラー使用時の高い溶媒回収を可能にする排気側蒸気コンデンサー
- オイルフリーで化学耐性のある MD 4C NT ベースポンプ
- ホース接続:吸入口/排気口 DN 8–10 mm、冷却 DN 6–8 mm
- コンパクト設計、組み立て済みで納品