Visão geralTermostato de processo termoelétrico para ponto de utilização, desenvolvido para controlo preciso de temperatura em processos de semicondutores e salas limpas. Reduz o consumo energético face a sistemas com compressor e pode ser instalado sob o piso no ponto de utilização para minimizar a área em sala limpa. Controla perfis de temperatura do processo a ±0,1 °C para melhorar a homogeneidade entre wafers.
Características- Termostato de processo termoelétrico com baixo consumo de energia
- Funcionamento silencioso e com baixas vibrações graças à tecnologia de arrefecimento sem refrigerante
- Não requer filtros nem componentes DI
- Ligação para purga com ar seco limpo (CDA) para prevenir condensação
- Uso de fluidos perfluorados
- Versão arrefecida a água disponível
- Tamanho compacto e peso reduzido para instalação no ponto de utilização
- Volume interno extremamente reduzido de fluido de transferência de calor
- Conformidade com SEMI S2 e F47
Intervalo de funcionamento- Temperatura mínima de funcionamento: −20 °C
- Temperatura máxima de funcionamento: 90 °C
- Estabilidade de temperatura: ±0,1 K
Capacidade de refrigeração (exemplos)Temperatura — Capacidade de arrefecimento 50 Hz — Capacidade de arrefecimento 60 Hz
20 °C — 1,2 kW — 1,2 kW
10 °C — 0,9 kW — 0,9 kW
0 °C — 0,6 kW — 0,6 kW
−10 °C — 0,35 kW — 0,35 kW
−20 °C — 0,08 kW — 0,08 kW
Dados técnicos (segundo DIN 12876)- Intervalo de temperatura de funcionamento: −20 ... 90 °C
- Estabilidade de temperatura: ±0,1 K
- Potência mínima do aquecedor: 3 kW
- Volume mínimo de enchimento: 1 L
- Volume máximo de enchimento: 1,3 L
- Dimensões (LxPxA): 116 x 232 x 470 mm
- Peso: 15 kg
- Alimentação: ligação a PSC